Составители:
Рубрика:
25
Рис. 1.2.8. Зависимость отношения микротвёрдости подповерхностного
слоя эмали после лазерной обработки на глубине 100 мкм (HD
las
)
к микротвёрдости интактной эмали (HD
int
) от плотности энергии
излучения YAG: Nd лазера (экспозиция 100 Дж).
Рис. 1.2.9. Зависимость отношения микротвёрдости подповерхностного
слоя эмали после лазерной обработки на глубине 100 мкм (HD
las
)
к микротвёрдости интактной эмали (HD
int
) от плотности энергии
YAG: Cr, Tm, Ho лазера (экспозиция ∼100 Дж).
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 23
- 24
- 25
- 26
- 27
- …
- следующая ›
- последняя »