ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
10
2.4. Определение напряжения плоских зон, напряжения инверсии и
порогового напряжения
Напряжением плоских зон V
FB
называется напряжение на затворе
реальной МДП-структуры , соответствующее значению поверхностного
потенциала в полупроводнике, равному нулю :
)(VV
SgFB
0=ψ=
. (25)
В идеальных структурах V
FB
= 0. В реальных структурах наличие
контактной разности потенциалов φ
ms
и эффективного поверхностного
заряда Q
ssэ
приводит к сдвигу С-V характеристик (относительно
идеальных) по оси напряжений и, следовательно, к появлению
некоторого отличного от нуля напряжения плоских зон
iSSЭMSFB
СQV −φ=
, (26)
где суммарный заряд Q
SSЭ
включает в себя заряд поверхностных
состояний на границе раздела полупроводник- диэлектрик Q
SS
и
встроенный в диэлектрик заряд Q
i
. Для определения напряжения плоских
зон реальной МДП-структуры сначала по формуле (12) рассчитывается
значение емкости идеальной структуры в состоянии плоских зон.
Затем , поскольку экспериментальная С -V кривая высокочастотная (т.е.
C
SS
→ 0) , проведя сечение С=const=C
FB
теор
, мы получаем при
пересечении этой прямой с экспериментальной ВФХ напряжение,
соответствующее ψ
s
= 0.
Напряжение инверсии V
i
и пороговое напряжение V
T
определяются
аналогично V
FB
по значениям емкостей C
i
и C
T
(20), соответствующих
наступлению слабой (ψ
s
=φ
B
) и сильной инверсии (ψ
s
=2φ
B
).
2.5. Определение плотности эффективного поверхностного заряда
Обычно плотность эффективного поверхностного заряда определяют
по сдвигу экспериментальной С-V кривой относительно ВФХ идеальной
МДП-структуры при условии плоских зон (ψ
s
= 0).Таким образом ,
согласно (26)
i
FBMS
oSFBmsiSSЭ
d
V
)V(CQ
−φ
εε=−φ=
. (27)
Эффективная плотность поверхностных состояний (ПС) при этом
()
FBms
i
ioSSЭ
SSЭ
V
qdq
Q
N −φ
ε
ε
==
. (28)
10 2.4. О пределениенапря ж ения плоских зон, напря ж ения инверсии и порогового напря ж ения Н апря ж ением плоских зон VFB назы вается напря ж ение на затворе реальной М Д П -структуры , соответствую щ ее значению поверхностного потенциалав полупроводнике, равному нулю : V FB = V g ( ψ S = 0 ) . (25) В идеальны х структурах VFB = 0. В реальны х структурах наличие контактной разности потенциалов φms и эф ф ективного поверхностного заря да Qssэ приводит к сдвигу С-V характеристик (относительно идеальны х) по оси напря ж ений и, следовательно, к поя влению некоторого отличного от нуля напря ж ения плоских зон VFB = φ MS − QSSЭ Сi , (26) где суммарны й заря д QSSЭ вклю чает в себ я заря д поверхностны х состоя ний на границе раздела полупроводник-диэлектрик QSS и встроенны й в диэлектрик заря д Qi . Д ля определения напря ж ения плоских зон реальной М Д П -структуры сначала по ф ормуле (12) рассчиты вается значение емкости идеальной структуры в состоя нии плоских зон. Затем, поскольку экспериментальная С-V кривая вы сокочастотная (т.е. CSS → 0) , проведя сечение С=const=CFBт еор, мы получаем при пересечении этой пря мой с экспериментальной В Ф Х напря ж ение, соответствую щ ееψs = 0. Н апря ж ениеинверсии Vi и пороговоенапря ж ениеVT определя ю тся аналогично VFB по значения м емкостей Ci и CT (20), соответствую щ их наступлению слаб ой (ψs =φB ) и сильной инверсии (ψs =2φB). 2.5. О пределениеплотности эф ф ективного поверхностного заря да О б ы чно плотность эф ф ективного поверхностного заря даопределя ю т по сдвигу экспериментальной С-V кривой относительно В Ф Х идеальной М Д П -структуры при условии плоских зон (ψs = 0).Т аким об разом, согласно (26) φ − VFB QSSЭ = Ci ( φ ms − VFB ) = ε S ε o MS . (27) di Э ф ф ективная плотность поверхностны х состоя ний (П С) при этом QSSЭ ε ε N SSЭ = = o i (φ ms − VFB ) . (28) q qd i
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 8
- 9
- 10
- 11
- 12
- …
- следующая ›
- последняя »