ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
Содержание механических примесей
в
загрязненной
СОЖ
составляло
59,6
мг/дм
3
- ТС2 и 46,5
мг/дм
3
- ТСЗ в
сравнении
с
2068
мг/дм
3
и 1014
мг/дм
3
наТС1.
На основе анализа полученных данных
(рис. 2.23 и
табл.
4.9)
можно сде-
лать следующие выводы:
1.
Качество очистки
СОЖ в
технологической системе
ТС1
значитель-
но превосходит качество очистки, обеспечиваемое
в ТС2 и ТСЗ.
Например,
степень очистки
е = 0,99 при
исходной загрязненности
СОЖ С
и
-
3
ТС
I
3
2068
мг/дм
и £ = 0,93 при С
и
= 1014
мг/дм
, что
намного выше
по
срав-
нению
с
е
ТС2
= 0,58 и
е
тсз
= 0,39.
Тонкость очистки
(см.
табл.
4.9)
dlP
= 5 мкм; dJP = 15 мкм; dJP = 25 мкм.
Рис.
2.23.
Эффективность систем
очистки
СОЖ при
глубинном
шлифовании:
1,2 -
зависимость £ (d)
для
ТС1;
3,4 -
соответственно
зависимость
c(d) для ТС2 и ТСЗ
0
50 100 150 200 250 мкм 350
di •
2.9.
Эффективность системы очистки
СОЖ по рис. 2.12
Тип
станка
Условный
номер техно-
логической
системы
Сц,
мг/
дм
3
С
0
,
мг/
дм
3
d
50
,
мкм
рН
Дата
испыта-
ний
SLS-221
ТС1
2068
17 0,99*
1,55 8,8
16.03.08
SLS-221
ТС1
1014 65 0,93**
1,7
8,84
13.04.08
SLS-221
ТС2
60 25 0,58 10,2 8,84
07.04.08
630ФЗ ТСЗ
47
17 0,39 31,3 8,67
07.04.08
*
siro = 0,5;
е
отс
= 0,8; е
ф
= 0,9.
**е
Т
го
=
0,91; £
отс
= 0,9;
е
ф
=0,9.
2.
В
случае оснащения станка
SLS 221
установками типа
ТС2 и ТСЗ
интенсивное глубинное шлифование стало
бы
проблематичным
в
силу
об-
разования
и
попадания
в СОЖ
большого количества механических приме-
сей
при
шлифовании.
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 69
- 70
- 71
- 72
- 73
- …
- следующая ›
- последняя »
