Износостойкие покрытия: свойства, структура, технологии получения. Циркин А.В. - 10 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

УлГТУ | Ульяновск

Составители: 

Рубрика: 

10
Качество ИП КИБ зависит в значительной степени от состояния поверх-
ностей инструмента. При наличии загрязнений в результате локального газовы-
деления между РИ и корпусом камеры возникают микродуги, искажается газо-
вый состав в камере. Поэтому необходима тщательная очистка РИ, подлежаще-
го упрочнению [1]. Процесс подготовки РИ перед нанесением ИП состоит в
шлифовании и доводке с получением шероховатости поверхности не выше Ra
0,32, удалении загрязнений и обезжиривании путем промывки в бензине или
растворах моющих средств с использованием ультразвуковой мойки и сушке
сжатым воздухом [1].
В настоящее время применяются одно- и многослойные ИП не только на
основе карбидов, нитридов и карбонитридов титана, но также на основе анало-
гичных соединений других тугоплавких металлов (Hf, Nb, Ta, Cr, Zr, Mo) и их
композиций (TiZrN, TiAlCN, TiMoN, TiAlN, TiMoCN и др.).
Магнетронно-ионное распыление (МИР) использует в качестве испарите-
ля пластину-мишень [2], которая подключена к отрицательному потенциалу как
катод. Под влиянием магнитного поля, создаваемого постоянным магнитом,
расположенным за катодом-мишенью, электроны совершают движение по цик-
лоидальным траекториям в узкой зоне над мишенью. При этом степень распы-
ления и плотность ионного потока увеличивается на порядок, по сравнению с
простым диодным распылением.
Ионное плакирование рабочих поверхностей РИ происходит в результате
испарения тугоплавкого вещества в вакуумное пространство после его расплав-
ления электронно-лучевой пушкой [2] и подачи реакционного газа в вакуумное
пространство. Мощность электронного луча составляет около 12 кВт, отрица-
тельный потенциал на режущем инструменте составляет до 5 кВ при I = 2 А,
давление газа в момент конденсации покрытия составляет 0,05 - 0,1 Па (N
2
,
C
2
H
2
, CH
4
и др.). Обычно установки снабжены дополнительно накаливаемым
катодом (триодный принцип) и дополнительным анодом [2], с помощью кото-
рого формируется поток вторичных электронов, увеличивающих степень иони-
зации генерируемого вещества. Кроме того, в процессе ионного плакирования
используют дополнительный газ-носитель (обычно аргон). Недостатками мето-
да являются: низкая прочность адгезионной связи ИП и инструментальной ос-
новы; низкая производительность метода, чрезвычайно большие затраты на
процесс; сложность процесса плакирования, что требует применения ЭВМ для
управления [2].
1.2.3. Перспективы развития износостойких покрытий
для режущих инструментов
Совершенствование ИП направлено по пути создания сложных много-
компонентных покрытий и многослойных покрытий, включающих слои как
простого, так и сложного состава. Данные типы ИП обладают высокими физи-

Страницы