Процессы и аппараты химической технологии. Часть II. Цветков С.К - 24 стр.

UptoLike

нии скорости газа может проходить через максимум.
III. Описание лабораторной установки
Схема установки представлена на рис. 4. Она состоит из воздухо-
дувки 1, колонны 4, датчика 5. Колонна имеет диаметр 105 мм, выполнена
из органического стекла, снабжена газораспределительной решеткой 6 и
штуцерами: 3 для подвода воздуха, 8для подсоединения дифманометра
(дифманометр служит для измерения сопротивления слоя и решетки в ра-
боте по изучению гидродинамики кипящего слоя на этой же установке) и 5
для ввода в слой датчика. Датчик представляет собой термометр сопро-
тивления с развитой поверхностью теплообмена; токопроводящим мате-
риалом в нем служит тонкая медная проволока. Приборный щит 7 снабжен
миллиамперметром, вольтметром и амперметром.
Расход воздуха
V определяется по градуировочному графику на ос-
новании показаний вольтметра. Регулировка подачи воздуха осуществля-
ется изменением числа оборотов воздуходувки с помощью реостата 2. Для
измерения высоты слоя на корпусе аппарата имеется градуировочная шка-
ла 9. В качестве зернистого материала используется пенополистирол с
диаметром частиц 1 мм. Масса зернистого материала в слое m и его плот-
ность
ρ
задаются преподавателем. Температура теплообменной поверхно-
сти (датчика) t
д
определяется из показаний миллиамперметра. По градуи-
ровочному графику показания миллиамперметра переводятся в градусы
Цельсия.
IV. Порядок проведения работы
1. Проверяется положение датчика в колонне.
2. Включается воздуходувка 1 и устанавливается расход воздуха,
достаточный для приведения слоя в псевдоожиженное состояние.
3. Включается обогрев датчика. Сила тока
I устанавливается равной
24