ВУЗ:
Составители:
касательных напряжений. В реальном кристалле имеющиеся дислока-
ции допускают более легкий сдвиг атомных плоскостей, определяющий
пластическую деформацию, при гораздо меньших напряжениях. Зависи-
мость прочности кристалла от плотности дислокаций показана на рис.
8. При наличии дислокаций критическое напряжение течения определя-
ется по формуле
Τ
кр
≈ 2G
- 4
,
где G – модуль сдвига.
Рис. 8. Прочность кристалла в зависимости от искажений решетки
2. Предел текучести
Процесс пластического течения является температурно-зависи-
мым, что можно видеть по изменению диаграммы напряжение-деформа-
ция, снятой при различных температурах.
Переход от упругой к пластической деформации определяется на-
чалом необратимого движения дислокаций в решетке. При этом также
возможно взаимодействие между дислокациями и внедренными атома-
ми.
В ненагруженном кристалле часть инородных атомов диффунди-
рует к дислокациям (что определяется при этом происходящим сниже-
нием энергии дислокаций). При этом вокруг дислокаций образуются ат-
мосферы атомов примесей – облака Котрелла. В этих облаках атомов
примесей больше, чем в среднем в кристалле.
В нагруженном кристалле для отрыва дислокаций от облаков Ко-
трелла необходимо приложить более высокое напряжение (σ
0
), чем
21
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 19
- 20
- 21
- 22
- 23
- …
- следующая ›
- последняя »
