ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
Микропроцессорные системы и программное обеспечение в средствах связи
8
сорной техники является единственно возможным способом реализо-
вать необходимые функции [6].
На физическом уровне компоненты процессора могут изготов-
ляться отдельно, а затем устанавливаться на основание микросхемы в
процессе ее изготовления. Основой современной элементной базы для
изготовления МПр является твердотельный планарный транзистор на
кремниевой подложке, изготавливаемый по диффузионной технологии.
Полупроводниковая структура формируется
на поверхности кристалла
кремния в 15..25 слоях из поликремния, металла, диэлектрика. Техно-
логический процесс изготовления такого транзистора представляет со-
бой поэтапную (по областям транзистора) диффузию примесей в кри-
сталлическую структуру кремниевой подложки при температурах по-
рядка +800°C с очень жесткими ограничениями на градиент температу-
ры. Для получения приемлемых характеристик градиент должен иметь
порядок
± 0,1°/час [25]. В настоящее время существуют МПр, выпол-
ненные в виде единичных кристаллов большой площади (до 300… 400
мм
2
) или в виде сборки из нескольких больших (сверхбольших) инте-
гральных схем (СБИС); общая тенденция – увеличение площади кри-
сталлов СБИС в среднем на 10%..15% в год. Физический размер кри-
сталла микропроцессора (чипа) определенным образом связан с тех-
нологической или проектной нормой производства т.е. со значением
максимального смещения границы топологического элемента при
изго-
товлении транзистора. Например, площадь кристалла равна 20-140 мм
2
при технологической норме 90 нм, а при технологической норме 65 нм
площадь кристалла составляет 80-100 мм
2
. Расстояние между транзи-
сторами на кристалле МПр сейчас составляет одну десятитысячную
толщины человеческого волоса. По точности изготовления современ-
ные транзисторы равносильны тому, чтобы провести автомобиль по
прямой длиной в 650 км с отклонением от оси менее 2,5 см. (все дан-
ные компании Intel).
Микропроцессорные системы и программное обеспечение в средствах связи сорной техники является единственно возможным способом реализо- вать необходимые функции [6]. На физическом уровне компоненты процессора могут изготов- ляться отдельно, а затем устанавливаться на основание микросхемы в процессе ее изготовления. Основой современной элементной базы для изготовления МПр является твердотельный планарный транзистор на кремниевой подложке, изготавливаемый по диффузионной технологии. Полупроводниковая структура формируется на поверхности кристалла кремния в 15..25 слоях из поликремния, металла, диэлектрика. Техно- логический процесс изготовления такого транзистора представляет со- бой поэтапную (по областям транзистора) диффузию примесей в кри- сталлическую структуру кремниевой подложки при температурах по- рядка +800°C с очень жесткими ограничениями на градиент температу- ры. Для получения приемлемых характеристик градиент должен иметь порядок ± 0,1°/час [25]. В настоящее время существуют МПр, выпол- ненные в виде единичных кристаллов большой площади (до 300… 400 мм2) или в виде сборки из нескольких больших (сверхбольших) инте- гральных схем (СБИС); общая тенденция – увеличение площади кри- сталлов СБИС в среднем на 10%..15% в год. Физический размер кри- сталла микропроцессора (чипа) определенным образом связан с тех- нологической или проектной нормой производства т.е. со значением максимального смещения границы топологического элемента при изго- товлении транзистора. Например, площадь кристалла равна 20-140 мм2 при технологической норме 90 нм, а при технологической норме 65 нм площадь кристалла составляет 80-100 мм2. Расстояние между транзи- сторами на кристалле МПр сейчас составляет одну десятитысячную толщины человеческого волоса. По точности изготовления современ- ные транзисторы равносильны тому, чтобы провести автомобиль по прямой длиной в 650 км с отклонением от оси менее 2,5 см. (все дан- ные компании Intel). 8
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 6
- 7
- 8
- 9
- 10
- …
- следующая ›
- последняя »