Составители:
7
Метод остаточных лучей базируется на последовательном из-
бирательном отражении в области аномальной дисперсии от несколь-
ких кристаллических пластинок.
В области прозрачности коэффициент отражения для нормально
падающего на пластинку излучения мал и равен
ρ
0
= [(n - 1) / (n + 1)]
2
,
где n - показатель преломления пластинки. В области сильного по-
глощения коэффициент отражения сильно возрастает и зависит от
коэффициента экстинкции κ:
ρ
max
= [(n - 1)
2
+ κ
2
] / [(n + 1)
2
+ κ
2
] .
Отношение величин потоков отраженного излучения в этих об-
ластях после N-кратного отражения составит:
Ф
N
= Ф
отн
(ρ
max
/ ρ
0
) ,
где Ф
отн
- отношение потоков после одного отражения. После доста-
точно большого числа отражений остается лишь спектральная об-
ласть, прилежащая к максимуму отражения. Достоинством метода
является возможность получения больших интенсивностей в области
фильтрации. К недостаткам относятся малая контрастность, громозд-
кость и трудность выделения любой заданной области (положение
максимума отражения определяется материалом пластинок). Исполь-
зуемые материалы: окислы (кварц, ZnO, сапфир, TiO
2
), фториды,
хлориды, бромиды, йодиды (рис. 3).
0
50 100 150 200 250 300
λ
, мкм
0,4
0,8
1,0
0,6
0,2
ρ
1
2 3 4 5
Рис. 3. Спектры отражения:
1 - ZnO; 2 - BaF
3
; 3 - TiCl: 4 - CsBr; 5 - CsJ
При незначительном поглощении в тонких диэлектрических
пленках, составляющих интерференционные фильтры, спектральный
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 5
- 6
- 7
- 8
- 9
- …
- следующая ›
- последняя »
