Лабораторный практикум по общей физике. Оптика. Карпов А.В - 80 стр.

        В эксперименте (см. рис. 12) при проведении опытов по пространственной фильтрации
используется вспомогательная короткофокусная линза. С ее помощью можно спроектировать на экран в
увеличенном масштабе k ∼ L f k (L – расстояние от короткофокусной линзы до экрана) сам объект-
сетку в плоскости Р2, спектр объекта в плоскости Ф и изображение сетки в плоскости Р2, перемещая
короткофокусную линзу, и провести необходимые измерения.
        Перед проведением опытов по фильтрации собирают схему рис. 11. Сначала определяют
фокусное расстояние короткофокусной линзы. Короткофокусной линзой проецируют миллиметровую
шкалу прозрачной линейки на экран. Зарисовывают изображение D шкалы. Измеряют l1 и l2, размер
изображения D. Определяют фокус короткофокусной линзы fk по формуле линзы. После этого
определяется фокусное расстояние fЛ линзы Л по схеме рис. 11. Размер изображения шкалы на экране и
расстояния l1 и l2 измеряются аналогично сказанному выше. Размер изображения отмечают карандашом
на прикрепленной к экрану бумаге. По формуле линзы находят fЛ. Далее определяют размер ячейки
сетки. Для этого выполняют описанную для короткофокусной линзы работу по рис. 11, но вместо
миллиметровой линейки ставят кассету с сеткой. Определяют размер ячейки сетки, зная расстояния l1, l2
и fk.




            Рис. 12. 1 – лазер; 2 – объект (сетка); 3 – линза Л; 4 – фильтрующая маска (щель);
                        5 – короткофокусная линза; 6 – экран; 7 – направляющая


        Опыты по пространственной фильтрации выполняются на установке, схема которой дана на рис.
12. Для выполнения основных опытов собирают схему рис. 12. Сначала короткофокусной линзой
проецируют на экран изображение сетки полученное среднефокусной линзой Л при снятой
фильтрующей маске в плоскости Р2. Делают зарисовки и измерения. Далее ставят маску. При
различных положениях щели фильтрующей маски получают изображение на экране. Делают зарисовки.
        Затем короткофокусную линзу из плоскости Р2 передвигают к плоскости Ф так, чтобы на экране
было получено изображение щели с проходящими через нее спектральными пятнами. Делают
зарисовки. Измеряют величину Δ для спектра. По полученным результатам определяют Δ, d , d ′ для
трех случаев положения щели фильтрующей маски. Определяют ошибку опытов. Сравнивают
результаты расчетов и прямых измерений. Все схемы опытов собираются на небольшой направляющей
(см. рис. 13).

                                                   80