ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
9
преимуществами, как возможные материалы для оптических
волокон.
2. Газовые , твердотельные и полупроводниковые
лазеры
2.1. Вычислить значения
ε
g
kT/ при комнатной температуре для
Ge,Si,GaAs полупроводников.
2.2.Вычислить значения коэффициентов диффузии электронов и
дырок для полупроводников, перечисленных в задаче 2.1.
2.3. Вывести выражение для инжекционной эффективности p-n-
перехода, образованного прямозонным полупроводником, в котором
излучательная рекомбинация преобладает над другими процессами
рекомбинации. Исходя из него рассчитать инжекционную
эффективность в p+n GaAs диоде, в котором n
A
=10
24
m
-3
и n
D
=10
21
m
-3
.
2.4. Источник малого размера дает излучение с угловым
распределением
, где II() cos
θ
α
=
0
θ
α
> 1 и
θ
- угол относительно
нормали к поверхности. Сравнить коэффициент связи с волокном
такого источника н Ламбертова источника, для которого
α
= 1.
2.5. Ток, инжектируемый в N-p-P двойную гетероструктуру,
модулируется сигналом с частотой в, т. е. плотность тока J = J
0
+ J
1
ехр jwt. Предполагается: а) ток утечки и дырочный ток
пренебрежимо малы; б) постоянные времени излучательной и
безизлучательной рекомбинации в активном р-слое есть
τ
и
и
τ
в
соответственно; в) скорость рекомбинации в каждом гетеропереходе
s; г) толщина активного слоя d. Показать, что модулированная
оптическая мощность
Р = Р
0
+ Р
1
, ехр j (wt+
ϕ
),
(hc/
λ
)средняя энергия фотона.
2.6. В диоде на основе двойной гетероструктуры времена
излучательной и безизлучательной рекомбинации в активном слое,
имеющем толщину 0,5 мкм, составляют 10 и 30 ни соответственно, а
скорость рекомбинации одинакова для обоих гетеропереходов и
равна 10 и/с. Считая, что коэффициент рекомбинации для материала
активного слоя r = 2х10
-16
м
3
/с, рассчитать:
а) концентрацию легирующей примеси в активном слое:
9
9 преимуществами, как возможные материалы для оптических волокон. 2. Газовые , твердотельные и полупроводниковые лазеры 2.1. Вычислить значения ε g / kT при комнатной температуре для Ge,Si,GaAs полупроводников. 2.2.Вычислить значения коэффициентов диффузии электронов и дырок для полупроводников, перечисленных в задаче 2.1. 2.3. Вывести выражение для инжекционной эффективности p-n- перехода, образованного прямозонным полупроводником, в котором излучательная рекомбинация преобладает над другими процессами рекомбинации. Исходя из него рассчитать инжекционную эффективность в p+n GaAs диоде, в котором nA=1024m-3 и nD=1021m-3. 2.4. Источник малого размера дает излучение с угловым распределением I (θ ) = I 0 cosα θ , где α > 1 и θ - угол относительно нормали к поверхности. Сравнить коэффициент связи с волокном такого источника н Ламбертова источника, для которого α = 1. 2.5. Ток, инжектируемый в N-p-P двойную гетероструктуру, модулируется сигналом с частотой в, т. е. плотность тока J = J0+ J1 ехр jwt. Предполагается: а) ток утечки и дырочный ток пренебрежимо малы; б) постоянные времени излучательной и безизлучательной рекомбинации в активном р-слое есть τ и и τ в соответственно; в) скорость рекомбинации в каждом гетеропереходе s; г) толщина активного слоя d. Показать, что модулированная оптическая мощность Р = Р0+ Р1, ехр j (wt+ ϕ ), (hc/ λ )средняя энергия фотона. 2.6. В диоде на основе двойной гетероструктуры времена излучательной и безизлучательной рекомбинации в активном слое, имеющем толщину 0,5 мкм, составляют 10 и 30 ни соответственно, а скорость рекомбинации одинакова для обоих гетеропереходов и равна 10 и/с. Считая, что коэффициент рекомбинации для материала активного слоя r = 2х10-16 м3/с, рассчитать: а) концентрацию легирующей примеси в активном слое: 9
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 7
- 8
- 9
- 10
- 11
- …
- следующая ›
- последняя »