Процессы и аппараты защиты окружающей среды. Кобзарь И.Г - 30 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

Процесс фильтрации в волокнистых фильтрах состоит из двух стадий. На

первой стадии (стационарная фильтрация) уловленные частицы практически не

изменяют структуры фильтра во времени, на второй стадии процесса (неста-

ционарная фильтрация) в фильтре происходят непрерывные структурные изме-

нения вследствие накопления уловленных частиц в значительных количествах.

В соответствии с этим все время изменяются

эффективность очистки и сопро-

тивление фильтра. Теория фильтрования в таких фильтрах еще недостаточно

разработана.

Волокнистые фильтры тонкой очистки (рис. 15). Используются в атомной

энергетике, радиоэлектронике, точном приборостроении, промышленной мик-

робиологии, в химико-фармацевтической и др. Фильтры позволяют очищать

большие объемы газов от твердых частиц всех размеров, включая субмикрон-

ные. Их широко

применяют для очистки радиоактивных аэрозолей. Для очист-

ки до 99 % (для частиц 0,05−0,5 мкм) применяют материалы в виде тонких лис-

тов или объемных слоев из тонких или ультратонких волокон (диаметр менее

2 мкм). Скорость фильтрации составляет 0,01−0,15 м/с, сопротивление чистых

фильтров не превышает 200−300 Па, а забитых пылью фильтров 700−1500 Па

Улавливание частиц в фильтрах тонкой очистки происходит за счет броунов-

ской диффузии и эффекта касания.

Рис. 15. Фильтры тонкой очистки:

а − рамный: 1 − П-образная планка; 2 − боковая стенка; 3 − фильтрующий материал;

4 − разделитель; б − с сепараторами клиновой формы типа Д-КЛ: 1 − фильтрующий

материал; 2 − рамка-сепаратор клиновой формы; в − комбинированный: 1 − секция

с набивным слоем из волокон; 2 − секция тонкой очистки