Автоматизация технологических процессов и производств. Часть первая. Конспект лекций. Кузьменко Н.В. - 61 стр.

        Концентрацию упаренного раствора Qу можно также регулировать изменением расхода
раствора, подаваемого на последний корпус из предыдущего. Упаренный раствор из послед-
него корпуса, в этом случае, отводят по команде регулятора по уровню. При таких схемах ре-
гулирования материального баланса выпарной установки количество поступающего на нее
исходного раствора определяется условиями ее работы. Это требует установки дополнитель-
ной технологической емкости исходного раствора.
        Не рекомендуется стабилизировать концентрацию упаренного раствора в последнем
корпусе воздействием на подачу свежего раствора на установку. Вследствие большого запаз-
дывания объекта такая схема не обеспечит высокого качества регулирования.
        Если расход исходного раствора зависит от работы предшествующих технологических
установок, но колебания его незначительно, то концентрацию упаренного раствора можно ре-
гулировать изменением подачи греющего пара на установку. При этом с помощью регулято-
ров уровня в выпарных аппаратах изменяют количество отводимого из них раствора.
        При больших колебаниях расхода исходного раствора, а также при изменении концен-
трации в нем растворенного вещества, качественное регулирования процесса обеспечивается
применением более сложных схем, например схемы многоконтурного регулирования, рис.
6.16.
        В этом случае греющий пар подают на установку в определенном соотношении с рас-
ходом исходного продукта, применяя регулятор соотношения, воздействующий на подачу па-
ра. Это соотношение корректируют регулятором концентрации растворенного вещества в ис-
ходном растворе. Для стабилизации работы второго выпарного аппарата частично упаренный
раствор, направляемый в него, регулируется по каскадной схеме регулирования расхода с
коррекцией по уровню раствора в первом выпарном аппарате. Упаренный раствор отводят с
установки по уровню в последнем аппарате, регулятором, задание которому изменяет регуля-
тор концентрации растворенного вещества в упаренном растворе. Давление в системе под-
держивается на заданном значении посредством регулирования расхода паров растворителя с
коррекцией по давлению в последнем выпарном аппарате.
        Приведенные схемы многоконтурного регулирования отдельных технических величин
могут быть использованы в различных сочетаниях с простейшими одноконтурными схемами
стабилизации.




                                           61