ВУЗ:
Составители:
плоскость. Отметим, что в данной работе нас будут интересовать только
низкоиндексные плоскости и оси как наиболее выраженные. На рис.3.2
показаны низкоиндексные плоскости ( i j k) алмазной решетки
.
Рис 3.2. Элементарная ячейка кристалла алмазоподобной структуры и её проекция
на низкоиндексные плоскости
Пространство между двумя параллельными кристал-
лографическими плоскостями при рассмотрении процессов
каналирования заряженных частиц называют плоскостным каналом.
Пространство общее для двух и более плоскостных каналов называют
осевым (аксиальным) каналом. Проекции низкоиндексных осевых
каналов показаны на рис.3.2.
Поток частиц можно направить вдоль
кристаллографической оси, а также и под некоторым углом к ней.
Атомы решетки подвержены тепловым колебаниям. Эти колебания
рассматриваются как независимые с амплитудами смещений из
равновесных положений распределенными по закону Гаусса:
2
2
1
() exp
2
2
q
fq
σ
σπ
⎛⎞
−
=
⎜
⎝⎠
⎟
, (3.4)
где σ – среднеквадратичное отклонение;
45
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 43
- 44
- 45
- 46
- 47
- …
- следующая ›
- последняя »
