ВУЗ:
Составители:
- 55 -
вдоль оптической оси прибора на расстояние ±2,5 мм от-
носительно фокальной плоскости для λ=100 нм. Из рас-
считанной фокальной кривой монохроматора при расстоя-
нии от точки излучения до дифракционной решетки 10 м,
видно, что дефокусировка не превышает 3 мм при скани-
ровании от 35 до 250 нм и позволяет получить разрешение
≤ 0,1 нм. Поворот решетки на 1° приводит к изменению
длины волны на выходной щели на 30 нм, при этом это
значение сохраняется для всей рабочей ВУФ-области.
Для устранения высших порядков перед выходной ще-
лью вводились полосовые фильтры из кварцевого стекла
(интервал λ>180 нм) и MgF
2
(115—200 нм). При работе в
интервале меньше 50 нм вклад высших порядков незначи-
телен благодаря использованию решетки с вольфрамовым
покрытием с максимумом концентрации энергии около 60
нм. Управление выходной щелью, светофильтрами, как и
дифракционной решеткой, осуществляется шаговыми дви-
гателями, что позволяет автоматизировать весь процесс
измерений. Градуировку прибора по длинам волн осуще-
ствляли с помощью уравнения решетки. Для дальнейшей
градуировки применялся He–Ne лазер. Проверка градуи-
ровки и разрешающей способности проводилась по лини-
ям поглощения различных инертных газов при λ>115 нм
при напуске газа в криостат, отделенный от вакуума в ка-
нале окном из MgF
2
.
Азотный криостат, установленный за выходной щелью
монохроматора, позволяет измерять спектры пропускания,
отражения и возбуждения люминесценции в интервале
температур 80–295 К.
Регистрация излучения от объекта производилась ФЭУ-
100, работающим в режиме счета фотонов, перед фотока-
тодом которого были установлены светофильтры. Так как
ширина выходной щели монохроматора при сканировании
по спектру не меняется, то интенсивность падающего на
вдоль оптической оси прибора на расстояние ±2,5 мм от-
носительно фокальной плоскости для λ=100 нм. Из рас-
считанной фокальной кривой монохроматора при расстоя-
нии от точки излучения до дифракционной решетки 10 м,
видно, что дефокусировка не превышает 3 мм при скани-
ровании от 35 до 250 нм и позволяет получить разрешение
≤ 0,1 нм. Поворот решетки на 1° приводит к изменению
длины волны на выходной щели на 30 нм, при этом это
значение сохраняется для всей рабочей ВУФ-области.
Для устранения высших порядков перед выходной ще-
лью вводились полосовые фильтры из кварцевого стекла
(интервал λ>180 нм) и MgF2 (115—200 нм). При работе в
интервале меньше 50 нм вклад высших порядков незначи-
телен благодаря использованию решетки с вольфрамовым
покрытием с максимумом концентрации энергии около 60
нм. Управление выходной щелью, светофильтрами, как и
дифракционной решеткой, осуществляется шаговыми дви-
гателями, что позволяет автоматизировать весь процесс
измерений. Градуировку прибора по длинам волн осуще-
ствляли с помощью уравнения решетки. Для дальнейшей
градуировки применялся He–Ne лазер. Проверка градуи-
ровки и разрешающей способности проводилась по лини-
ям поглощения различных инертных газов при λ>115 нм
при напуске газа в криостат, отделенный от вакуума в ка-
нале окном из MgF2.
Азотный криостат, установленный за выходной щелью
монохроматора, позволяет измерять спектры пропускания,
отражения и возбуждения люминесценции в интервале
температур 80–295 К.
Регистрация излучения от объекта производилась ФЭУ-
100, работающим в режиме счета фотонов, перед фотока-
тодом которого были установлены светофильтры. Так как
ширина выходной щели монохроматора при сканировании
по спектру не меняется, то интенсивность падающего на
- 55 -
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 54
- 55
- 56
- 57
- 58
- …
- следующая ›
- последняя »
