Гидромеханические процессы. Часть 1. Николаев Г.И - 31 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ВСГУТУ | Улан-Удэ

Составители: 

Рубрика: 

0
0
0
ρ
G
V = . (2-28)
При
ρ
ρ
>
1
осадок собирается в нижней части отстойника, занимаемая им емкость
аппарата может быть:
а) частью емкости днища; в этом случае, принимая диаметр выгружного отверстия
равным d, определяют диаметр верхнего слоя осадка в цилиндрическом отстойнике
3
3
2
0
0
d
k
V
D +=
(2-29)
высота слоя по вертикали
α
tg
dD
H
2
0
0
−
= , (2-30)
в отстойнике пирамидальной формы при раннее рассчитанном соотношении
0
a
B
L
=
одна сторона верхней плоскости осадка, если пренебречь влиянием диаметра выгружного
отверстия, составляет
10
0
0
α
tga
GV
B =
(2-31)
другая
000
BaL = (2-32)
высота по вертикали
100
5.0
α
tgBH = ; (2-33)
б) частью емкости цилиндров при полном заполнении днища, тогда высота осадка в
цилиндрической части
F
DkV
H
3
20
0
= (2-34)
или частью емкости призмы при полном заполнении пирамидального днища; высота
осадка в призматической емкости отстойника
02
0
0
Bk
F
V
H −=
. (2-35)
4.2. Отстойники полунепрерывного действия
В отстойнике этого типа подача исходной смеси (системы) и разделение ее
производят непрерывно (рис. 2.2), при этом осветленная жидкость также непрерывно
отводится, а осадок собирается на дне аппарата и удаляется периодически.
Рис. 2.2. Схема пирамидального отстойника полунепрерывного действия. 
                                  G
                            V0 = 0 .                        (2-28)
                                  ρ0
      При ρ1 > ρ осадок собирается в нижней части отстойника, занимаемая им емкость
аппарата может быть:
      а) частью емкости днища; в этом случае, принимая диаметр выгружного отверстия
равным d, определяют диаметр верхнего слоя осадка в цилиндрическом отстойнике
                                                V
                                         D0 = 3 0 + d 3     (2-29)
                                                k2
      высота слоя по вертикали
                                    D −d
                            H0 = 0        tgα ,             (2-30)
                                       2
                                                                              L
      в отстойнике пирамидальной формы при раннее рассчитанном соотношении      = a0
                                                                              B
одна сторона верхней плоскости осадка, если пренебречь влиянием диаметра выгружного
отверстия, составляет
                              GV0
                       B0 =                                       (2-31)
                             a 0 tgα 1
      другая
                            L0 = a 0 B0                     (2-32)

       высота по вертикали
                         H 0 = 0.5B0 tgα 1 ;                 (2-33)
       б) частью емкости цилиндров при полном заполнении днища, тогда высота осадка в
цилиндрической части
                               V0 k 2 D 3
                         H0 =                                (2-34)
                                   F
       или частью емкости призмы при полном заполнении пирамидального днища; высота
осадка в призматической емкости отстойника
                               V
                         H 0 = 0 − k 2 B0 .                  (2-35)
                               F

                       4.2. Отстойники полунепрерывного действия

      В отстойнике этого типа подача исходной смеси (системы) и разделение ее
производят непрерывно (рис. 2.2), при этом осветленная жидкость также непрерывно
отводится, а осадок собирается на дне аппарата и удаляется периодически.




            Рис. 2.2. Схема пирамидального отстойника полунепрерывного действия.

Страницы