ВУЗ:
Составители:
Физические основы нанотехнологий 
35
наноэлектроники,  работа  которых  управляется  чрезвычайно  ма-
лыми  электрическими  зарядами,  вплоть  до  заряда одного  элект-
рона,  в  то  время  как  для  современных  элементов  микро-
электроники требуется величина заряда 10
5
−10
6
 электронов. 
На рис. 1.14а изображена наноразмерная структура, состоящая 
из  двух  металлических  электродов (1, 2), разделенных  диэлект-
рической средой, в которую помещена квантовая точка (3). В та-
кой структуре может протекать электрический ток за счет тунне-
лирования  электронов  сквозь  потенциальные  барьеры  между 
квантовой точкой и электродами. При определенных параметрах 
потенциальных  барьеров,  определяемых  размерами  элементов 
структуры  и  свойствами  их  материалов,  зависимость  тока  I,  те-
кущего между электродами, от приложенного к ним напряжения 
U  имеет  ступенчатый  характер,  показанный  упрощенно  на 
рис. 1.14б. Такой вид вольт-амперной характеристики обусловлен 
эффектом кулоновской  блокады, который состоит  в  том,  что  при 
наличии  на  квантовой  точке  электрона  проникновение  после-
дующих  электронов через
 потенциальный  барьер  становится не-
возможным  из-за  кулоновского  отталкивания.  При  напряжении 
U
КБ
 обеспечивается преодоление кулоновской блокады. 
Рис. 1.14. Схема наноразмерной структуры с квантовой точкой (а)
и ступенчатая вольт-амперная характеристика (б)  
а 
1 
U 
23
б 
I
UU
КБ
                               Физические основы нанотехнологий
наноэлектроники, работа которых управляется чрезвычайно ма-
лыми электрическими зарядами, вплоть до заряда одного элект-
рона, в то время как для современных элементов микро-
электроники требуется величина заряда 105−106 электронов.
                                                I
         1       3      2
                                                    UКБ     U
                 U
                 а                              б
  Рис. 1.14. Схема наноразмерной структуры с квантовой точкой (а)
  и ступенчатая вольт-амперная характеристика (б)
  На рис. 1.14а изображена наноразмерная структура, состоящая
из двух металлических электродов (1, 2), разделенных диэлект-
рической средой, в которую помещена квантовая точка (3). В та-
кой структуре может протекать электрический ток за счет тунне-
лирования электронов сквозь потенциальные барьеры между
квантовой точкой и электродами. При определенных параметрах
потенциальных барьеров, определяемых размерами элементов
структуры и свойствами их материалов, зависимость тока I, те-
кущего между электродами, от приложенного к ним напряжения
U имеет ступенчатый характер, показанный упрощенно на
рис. 1.14б. Такой вид вольт-амперной характеристики обусловлен
эффектом кулоновской блокады, который состоит в том, что при
наличии на квантовой точке электрона проникновение после-
дующих электронов через потенциальный барьер становится не-
возможным из-за кулоновского отталкивания. При напряжении
UКБ обеспечивается преодоление кулоновской блокады.
                                                                    35
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 33
- 34
- 35
- 36
- 37
- …
- следующая ›
- последняя »
