ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
Окончательное выражение для тока через контакт для первого процесса
имеет вид, совпадающий с формулой для прямого тока через p-n-переход, но
величина множителя J
S
имеет другой вид:
),1(
/
−=
kTqU
S
eJJ (29)
−=
kT
q
ATJ
Bn
S
ϕ
exp
2
. (30)
3.3 Определение высоты барьера диода Шоттки методом вольт-
амперной характеристики
Для умерено легированных полупроводников (N
d
< 10
16
см
-3
) вольт- амперная
характеристика в области прямых смещений (отрицательный потенциал на n-
полупроводнике ) в соответствии с (29) имеет вид [2]:
+
∆
−=
kT
Vq
kT
q
ATJ
Bn
)(
expexp
2
ϕ
ϕ
, (31)
где ϕ
B0
– асимптотическое
значение высоты барьера при
нулевом поле , A – эффективная
постоянная Ричардсона , ∆ϕ -
понижение барьера за счет
эффекта Шоттки . Поскольку A
и ∆ϕ являются функциями
приложенного напряжения,
вольт- амперную
характеристику при прямом
смещении (V>3kT/q), можно
представить в виде J ∼
exp(qV/nkT), где n≥1 - фактор
неидеальности .
Типичные примеры
вольт- амперных характеристик
показаны на рис. 15.
В результате линейной
экстраполяции этих
характеристик к V=0 найдем ток
насыщения J
S
. Высоту барьера
получим из формулы
=
S
Bn
J
AT
q
kT
2
lnϕ .(32)
В формуле (32) A ≅ 120 А⋅см
-2
⋅К
-2
.
10
0
10
-1
10
-2
10
-3
10
-4
10
-5
10
-6
10
-7
0
0,1
0,2
0,3
V, В
J, А/см
2
Рис. 15. Зависимость плотности тока в диодах
W - Si (1) и W - GaAs (2) от приложенного в
прямом направлении напряжения [2].
1
2
J
S
J
S
О ко нча те льно е выр а ж е ни е для то ка че р е з ко нта кт для пе р во го пр о це сса и ме е т ви д, со впа да ю щ и й с фо р муло й для пр ямо го то ка че р е з p-n-пе р е хо д, но ве ли чи на мно ж и те ля JS и ме е тдр уго й ви д: J = J S (e qU / kT − 1), (29) qϕ J S = AT 2 exp − Bn . (30) kT 3.3 О пред ел ение высоты барь ера д иод а Ш оттк и м етод ом вол ь т- ам перной харак теристик и Д ля уме р е но ле ги р о ва нных по лупр о во дни ко в (Nd< 1016 см-3) во льт-а мпе р на я ха р а кте р и сти ка в о б ла сти пр ямых сме щ е ни й (о тр и ца те льный по те нци а л на n- по лупр о во дни ке ) в со о тве тстви и с (29) и ме е тви д [2]: qϕ q (∆ϕ + V ) J = AT 2 exp − Bn exp , (31) kT kT где ϕB0 – а си мпто ти че ско е J, А/см 2 зна че ни е высо ты б а р ье р а пр и нуле во м по ле , A – эффе кти вна я 100 по сто янна я Ри ча р дсо на , ∆ϕ - по ни ж е ни е б а р ье р а за сче т 10-1 эффе кта Ш о ттки . П о ско льку A и ∆ϕ являю тся функци ями 10 -2 пр и ло ж е нно го на пр яж е ни я, 1 во льт-а мпе р ную 10 -3 ха р а кте р и сти ку пр и пр ямо м сме щ е ни и (V>3kT/q), мо ж но 10-4 пр е дста ви ть в ви де J ∼ JS exp(qV/nkT), где n≥1 - фа кто р 2 не и де а льно сти . -5 10 Ти пи чные пр и ме р ы во льт-а мпе р ных ха р а кте р и сти к 10 -6 по ка за нына р и с. 15. JS -7 В р е зульта те ли не йно й 10 экстр а по ляци и эти х 0 0,1 0,2 0,3 V, В ха р а кте р и сти к к V=0 на йде м то к на сыщ е ни я JS. В ысо ту б а р ье р а Ри с. 15. За ви си мо стьпло тно сти то ка в ди о да х по лучи м и з фо р мулы W - Si (1) и W - GaAs (2) о тпр и ло ж е нно го в kT AT 2 пр ямо м на пр а вле ни и на пр яж е ни я [2]. ϕ Bn = ln .(32) q J S В фо р муле (32) A ≅ 120 А⋅см-2⋅К -2.