Физико-химические процессы в технологии машиностроения. Стекольников Ю.А - 16 стр.

UptoLike

висит от толщины образующейся пленки:
C
K
d
dh
, (4)
где К константа скорости химической реакции; с концентрация газа-
окислителя на поверхности металла, является постоянной во времени.
h = Кτ+а,
(5)
Уравнение прямой (5) носит название линейного закона роста пленок. В нем а
= h при τ = 0. По этому закону окисляются щелочные и щелочноземельные металлы.
Рост сплошной пленки. Сплошные, плотные пленки продуктов коррозии на
металлах являются защитными и затрудняют проникание реагентов металла и
окислителя навстречу друг другу. Рост таких пленок сопровождается самотор-
можением процесса, уменьшением скорости коррозии по мере утолщения пленки.
Рост тонких оксидных пленок при низких температурах и на первых стадиях
окисления металла при высоких температурах сопровождается большим самотор-
можением. Этому случаю соответствует логарифмический закон
h = Kln(aτ + b),
(6)
где К, а и b — постоянные.
В области более высоких температур кинетика окисления большинства метал-
лов описывается параболическим законом:
h
2
= Кτ + а
, (7)
Вышеприведенные математические зависимости можно представить графиче-
ски (рис. 2).
h 1
2
3
τ
Рис. 2. Объединенный график законов роста пленок: 1 линейный; 2 - парабо-
лический; логарифмический.
висит от толщины образующейся пленки:

                      dh
                          KC ,                        (4)
                      d
     где К — константа скорости химической реакции; с — концентрация газа-
окислителя на поверхности металла, является постоянной во времени.

                       h = Кτ+а,                       (5)

      Уравнение прямой (5) носит название линейного закона роста пленок. В нем а
= h при τ = 0. По этому закону окисляются щелочные и щелочноземельные металлы.
      Рост сплошной пленки. Сплошные, плотные пленки продуктов коррозии на
металлах являются защитными и затрудняют проникание реагентов — металла и
окислителя — навстречу друг другу. Рост таких пленок сопровождается самотор-
можением процесса, уменьшением скорости коррозии по мере утолщения пленки.
      Рост тонких оксидных пленок при низких температурах и на первых стадиях
окисления металла при высоких температурах сопровождается большим самотор-
можением. Этому случаю соответствует логарифмический закон

                       h = Kln(aτ + b),                 (6)

      где К, а и b — постоянные.
      В области более высоких температур кинетика окисления большинства метал-
лов описывается параболическим законом:

                         h2 = Кτ + а,                        (7)

      Вышеприведенные математические зависимости можно представить графиче-
ски (рис. 2).
          h                      1

                                         2



                                             3



                                           τ
     Рис. 2. Объединенный график законов роста пленок: 1 – линейный; 2 - парабо-
лический; логарифмический.