Фотолитографический метод создания тонкопленочных ВТСП структур. Сычев С.А - 1 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ОмГУ | Омск

Составители: 

Рубрика: 

Министерство образования Российской Федерации
Омский государственный университет
Фотолитографический метод создания
тонкопленочных ВТСП структур
Лабораторный практикум
(для студентов физического факультета)
специальность 010400 «Физика»
Издание Омск
ОмГУ 2004
2
УДК 538.945
Ф81
Рекомендован к изданию учебно-методическим советом ОмГУ.
Протокол № 1 от 28 апреля 2004 г.
Ф81 Фотолитографический метод создания тонкопленочных
ВТСП структур: Лабораторный практикум (для студентов физи-
ческого факультета) / Сост.: С.А. Сычев, Г.М. Серопян, И.С. По-
зыгун, В.В. Семочкин. – Омск: Омск. гос. ун-т, 2004. – 27 с.
Материал соответствует Государственному образовательному
стандарту по специальности 010400 «Физика». Даются представления
о фотолитографическом методе создания тонкопленочных структур с
использованием метода сухого травления и, в частности, микро-
структур из тонких ВТСП пленок для изготовления элементов сверх-
проводящей криоэлектроники.
Может быть использован студентами других специальностей.
УДК 538.945
© Омский госуниверситет, 2004 
     Министерство образования Российской Федерации          УДК 538.945
                                                                Ф81
            Омский государственный университет

                                                                  Рекомендован к изданию учебно-методическим советом ОмГУ.
                                                                              Протокол № 1 от 28 апреля 2004 г.




                                                            Ф81       Фотолитографический метод создания тонкопленочных
                                                                  ВТСП структур: Лабораторный практикум (для студентов физи-
                                                                  ческого факультета) / Сост.: С.А. Сычев, Г.М. Серопян, И.С. По-
                                                                  зыгун, В.В. Семочкин. – Омск: Омск. гос. ун-т, 2004. – 27 с.
          Фотолитографический метод создания                          Материал соответствует Государственному образовательному
            тонкопленочных ВТСП структур                          стандарту по специальности 010400 «Физика». Даются представления
                                                                  о фотолитографическом методе создания тонкопленочных структур с
                  Лабораторный практикум                          использованием метода сухого травления и, в частности, микро-
           (для студентов физического факультета)                 структур из тонких ВТСП пленок для изготовления элементов сверх-
                                                                  проводящей криоэлектроники.
              специальность 010400 «Физика»                           Может быть использован студентами других специальностей.
                                                                                                                     УДК 538.945




                                                                                                  © Омский госуниверситет, 2004
Издание                                              Омск
ОмГУ                                                 2004
                                                                                              2

Страницы