Системы управления химико-технологическими процессами. Втюрин В.А - 64 стр.

UptoLike

Составители: 

64
ется уровнем конденсата. Для регулирования уровня в таких объектах без
статической погрешности применяют ПИ-регуляторы.
8.4. Регулирование давления
Давление является показателем соотношения расходов газовой фазы
на входе в аппарат и выходе из него. Постоянство давления свидетельству-
ет о сохранении материального баланса аппарата по газовой фазе, записы-
ваемого в виде:
[ ]
âõ âû õ
d
,
d
p
V f F F
τ
=
(8.4)
где V объем аппарата; F
вх
и F
вых
приток и сток газа соответственно с
учетом химических и фазовых превращений в аппарате, как и в (8.3).
Обычно давление в технологической установке стабилизируют в ка-
ком-либо одном аппарате, а по всей системе оно устанавливается в соот-
ветствии с гидравлическим сопротивлением технологических линий и ап-
паратов. Например, в многокорпусной выпарной установке (рис. 8.11) ста-
билизируют вакуум в последнем выпарном аппарате 2, выбрав в качестве
управляющего воздействия изменение расхода охлаждающей воды, пода-
ваемой в конденсатор 3 (изменение расхода охлаждающей воды влияет на
скорость конденсации вторичного пара, т. е. на F
вых
). В остальных аппара-
тах при отсутствии возмущающих воздействий устанавливается разреже-
ние, определяемое из условий материального и теплового балансов с уче-
том гидравлического сопротивления технологической линии.
Рис. 8.11. Регулирование вакуума в выпарной установке:1, 2 – выпарные аппараты;
3 – тарельчатый конденсатор;4 – регулятор вакуума; 5 – регулирующий клапан
Если давление значительно влияет на кинетику процесса, то пре-
дусматривается система стабилизации давления в отдельных аппаратах.
Таким примером является процесс ректификации, для которого кривая фа-