ВУЗ:
Составители:
150
Рис.24. Зависимость интенсивности дуговых разрядов от отрицатель-
ного напряжения U на СБ: 1-лабораторный эксперимент; 2,3-полетные
данные [43]
Выявлено различие в лабораторных и полетных данных, что, по-
видимому, характеризует несовершенство имитационных испытаний,
связанное с вторичными эмиссионными явлениями на стенках вакуум-
ной имитационной камеры. Пороговое напряжение разрядов в СБ со-
ставляет около - 200 В и зависит от плотности ионосферной плазмы
(рис.23), материала электрических контактов (Ag или Cu) и конструк-
ции СБ [43].
Рис.25. Зависимость порогового напряжения разряда U на СБ от плот-
ности ионосферной плазмы [43]
Рис.24. Зависимость интенсивности дуговых разрядов от отрицатель- ного напряжения U на СБ: 1-лабораторный эксперимент; 2,3-полетные данные [43] Выявлено различие в лабораторных и полетных данных, что, по- видимому, характеризует несовершенство имитационных испытаний, связанное с вторичными эмиссионными явлениями на стенках вакуум- ной имитационной камеры. Пороговое напряжение разрядов в СБ со- ставляет около - 200 В и зависит от плотности ионосферной плазмы (рис.23), материала электрических контактов (Ag или Cu) и конструк- ции СБ [43]. Рис.25. Зависимость порогового напряжения разряда U на СБ от плот- ности ионосферной плазмы [43] 150
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 148
- 149
- 150
- 151
- 152
- …
- следующая ›
- последняя »