ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
156
Предме тный указатель
Aд-атомы, 48
Анодирование, 82
антимонида индия, 86, 90
арсенида галлия, 90
выбор условий, 89
историческая справка, 82
кремния, 90
общие закономерности, 83
полупроводников, 82
техника, 90
Анодное напряжение пробоя, 59
Анодное окисление
германия, 59
выход по току, 59
продукты окисления, 60
кремния
продукты окисления, 70
Анодное растворение, 54
анизотропное, 88
арсенида галлия n-типа, 76
наклон анодных кривых, 78
предельный анодный ток., 79
арсенида галлия р-типа, 75
германия n-типа
предельный анодный ток, 56
германия р-типа, 54
влияние рН раствора, 55
в растворах HF, 55
общая схема, 65
кремния n-типа, 70
кремния p-типа, 69
полирующее, 88
селективное, 88
Барьер
Бардина, 22
Шоттки, 21
Восстановление окислителей на полупроводни-
ке, 101
Время жизни неравновесных носителей заряда,
15, 17
Выделение водорода, механизм
на арсениде галлия 100
на германии 99
Генерация носителей заряда, 10, 14
биполярная, 10, 15
межзонная, 10, 14
монополярная, 10
примесная, 14
светом, 16
Грани и плоскости кристалла, 8
Диаграмма Е, рН для равновесной системы
арсенид галлия– вода, 127
Диффузионная длина, 14
Диффузионное перенапряжение
в полупроводнике, 47
в растворе, 44
Диффузионный ток, 14
пазонов, 46
предельный, 43
частиц раствора, 42
Диффузия, 42
Дрейфовая подвижность, 13
Дрейфовый ток, 13
Дырка, 4, 9
Ёмкость границы раздела полупроводник –
электролит, 30
Закон Фарадея, 32
Зона
валентная, 9
запрещённая, 10
проводимости, 9
Индексы Миллера, 8
Инжектирующие окислители, 58
Ионизация донорной примеси, 12
Катодное восстановление окислителей на по-
лупроводнике, 102
Катодное выделение металлов
влияние комплексообразования, 105
влияние плотности тока, 104
влияние природы металла, 104
влияние рН, 105
влияние состава раствора, 105
стадии процесса, 102
Катодные реакции
восстановления частиц раствора, 98
общие схемы, 98
разрушения полупроводников, 98
Квантовый выход, 15
Кинетика и механизм роста анодных пленок, 84
Конвекция, 42
Контакт металл – полупроводник
вид ВАХ для разных структур, 113
влияние природы металла, 111
влияние природы полупроводника, 111
влияние условий нанесения металла, 111
вольтамперные характеристики, 20
высота барьера, 21
природа униполярной проводимости, 113
структура контакта, 21
схемы структур контактов, 112
термоэлектронная эмиссия, 22
физическая теория выпрямления, 22
физическая теория выпрямления, 110
электрическая схема контакта, 114
энергетическая схема, 21
Контролирующей стадия, 34
Предме тный указатель Aд-атомы, 48 Диффузионное перенапряжение Анодирование, 82 в полупроводнике, 47 антимонида индия, 86, 90 в растворе, 44 арсенида галлия, 90 Диффузионный ток, 14 выбор условий, 89 пазонов, 46 историческая справка, 82 предельный, 43 кремния, 90 частиц раствора, 42 общие закономерности, 83 Диффузия, 42 полупроводников, 82 Дрейфовая подвижность, 13 техника, 90 Дрейфовый ток, 13 Анодное напряжение пробоя, 59 Дырка, 4, 9 Анодное окисление германия, 59 Ёмкость границы раздела полупроводник выход по току, 59 электролит, 30 продукты окисления, 60 Закон Фарадея, 32 кремния Зона продукты окисления, 70 валентная, 9 Анодное растворение, 54 запрещённая, 10 анизотропное, 88 проводимости, 9 арсенида галлия n-типа, 76 наклон анодных кривых, 78 Индексы Миллера, 8 предельный анодный ток., 79 Инжектирующие окислители, 58 арсенида галлия р-типа, 75 Ионизация донорной примеси, 12 германия n-типа предельный анодный ток, 56 Катодное восстановление окислителей на по- германия р-типа, 54 лупроводнике, 102 влияние рН раствора, 55 Катодное выделение металлов в растворах HF, 55 влияние комплексообразования, 105 общая схема, 65 влияние плотности тока, 104 кремния n-типа, 70 влияние природы металла, 104 кремния p-типа, 69 влияние рН, 105 полирующее, 88 влияние состава раствора, 105 селективное, 88 стадии процесса, 102 Катодные реакции Барьер восстановления частиц раствора, 98 Бардина, 22 общие схемы, 98 Шоттки, 21 разрушения полупроводников, 98 Квантовый выход, 15 Восстановление окислителей на полупроводни- Кинетика и механизм роста анодных пленок, 84 ке, 101 Конвекция, 42 Время жизни неравновесных носителей заряда, Контакт металл полупроводник 15, 17 вид ВАХ для разных структур, 113 Выделение водорода, механизм влияние природы металла, 111 на арсениде галлия 100 влияние природы полупроводника, 111 на германии 99 влияние условий нанесения металла, 111 вольтамперные характеристики, 20 Генерация носителей заряда, 10, 14 высота барьера, 21 биполярная, 10, 15 природа униполярной проводимости, 113 межзонная, 10, 14 структура контакта, 21 монополярная, 10 схемы структур контактов, 112 примесная, 14 термоэлектронная эмиссия, 22 светом, 16 физическая теория выпрямления, 22 Грани и плоскости кристалла, 8 физическая теория выпрямления, 110 Диаграмма Е, рН для равновесной системы электрическая схема контакта, 114 арсенид галлия вода, 127 энергетическая схема, 21 Диффузионная длина, 14 Контролирующей стадия, 34 156
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 154
- 155
- 156
- 157
- 158
- …
- следующая ›
- последняя »