ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
68
рующая реакция анодного растворения германия соответствует контролирующей стадии в
схеме Геришера (рис. 2.4, стадия (2.12с):
=GeOOН
–
+ е
+
→ –GeOOН. (2.22)
С увеличением концентрации HF уменьшается наклон анодных кривых. При α = 0.5 это соот-
ветствует увеличению числа зарядов в контролирующей стадии, т. е. объединению в одной стадии ря-
да реакций. В концентрированных растворах HF в присутствии постороннего электролита реакция
=GeOOH
–
+ 4HF + 2e
+
→ H
2
GeOF
4
+ H
2
O + H
+
(2.23)
отвечает b = 0.06 В (n ≈ 2 при α = 0,5) и порядку реакции по HF ≈ 4 [l0].
В 25 моль/л
монорастворах HF, когда наклон кривых уменьшается до 0.03 B (n = 4
при α = 0.5), а порядок реакции по HF увеличивается до 5…6, процесс описывает реакция:
≡Ge• + 6HF + 4e
+
→ H
2
GeF
6
+ 4H
+
. (2.24)
Лишь в этом предельном случае нами предполагается возможность участия HF, точнее
ионов HF
2
–
и F
–
вместо ионов ОН
–
и O
2–
в начальных стадиях анодного окисления герма-
ния. Эта возможность связана с достаточно высокой напряженностью электрического поля,
которую создают ионы НF
2
–
и F
–
. Так, у иона F
–
с радиусом 0,133 нм она лишь в 1.6 меньше,
чем у иона O
2–
с радиусом 0.146 нм.
Однако электродный процесс вместо реакции (2.24) может также состоять из начальной
стадии, протекающей с участием ионов ОН
–
и O
2–
:
≡Gе• + 2H
2
O + 2е
+
→ =GеООН
–
+ 3H
+
(2.25a)
и последующей стадии, протекающей с участием HF:
=GeOOH
–
+ 6HF + 2е
+
→ H
2
GeF
6
+ 2H
2
O + H
+
, (2.25b)
когда константы скоростей этих реакций близки.
2.3. АНОДНОЕ РАСТВОРЕНИЕ КРЕМНИЯ
В настоящее время кремний – основной материал электронной промышленности. Он,
как и германий, является представителем элементных полупроводников.
Электрохимическое поведение кремния и германия, связанное с полупроводниковыми
свойствами, аналогично лишь в общих чертах. Уже первые исследователи анодного поведе-
ния полупроводникового кремния А. Улир (1956), Р.Ф. Шмидт с сотрудниками (1957), Д.Р.
Тарнер (1958), Дж. Флинн (1958), Е.А. Ефимов и И.Г. Ерусалимчик (I960), Е.Н. Палеолог с
сотрудниками (1960), С.О. Изидинов с сотрудниками (1960) и другие отметили своеобразие
электрохимического поведения кремния, обусловленное, в первую очередь, его высокой хи-
мической активностью и большей шириной запрещенной зоны (1.11 эВ при 300 К). В боль-
шинстве растворов кремний легко пассивируется вследствие образования на его поверхности
оксидной пленки из SiO
2
, которая имеет высокое сопротивление и мало растворима в воде и
кислотах. Концентрированные растворы щелочи разъедают кремний с образованием раство-
римого силиката и выделением водорода.
Ранние
данные по
электрохимии кремния
обобщены в
работах
[1, 2,
29-35].
Интересно, что анодная поляризация кремния, например, в 10 моль/л растворе КОН уже
при перенапряжении 0.1…0.2 В не ускоряет, а подавляет саморастворение кремния, а при пере-
напряжении 0.4…0.5 В анодный ток растворения кремния уменьшается почти в 10 раз [1, 2, 29].
При исследовании механизма анодного растворения кремния и для выявления влияния
на эти процессы его полупроводниковых свойств обычно используют растворы HF и некото-
рых фторидов. В этих растворах влияние пассивационных явлений обычно устраняется, так как
оксиды кремния (IV), взаимодействуя с фторид-ионами, образуют растворимые фторсиликаты
аммония, натрия, сильную кремнийфтороводородную кислоту.
рующая реакция анодного растворения германия соответствует контролирующей стадии в
схеме Геришера (рис. 2.4, стадия (2.12с):
=GeOOН + е+ → GeOOН. (2.22)
С увеличением концентрации HF уменьшается наклон анодных кривых. При α = 0.5 это соот-
ветствует увеличению числа зарядов в контролирующей стадии, т. е. объединению в одной стадии ря-
да реакций. В концентрированных растворах HF в присутствии постороннего электролита реакция
=GeOOH + 4HF + 2e+ → H2GeOF4 + H2O + H+ (2.23)
отвечает b = 0.06 В (n ≈ 2 при α = 0,5) и порядку реакции по HF ≈ 4 [l0].
В 25 моль/л монорастворах HF, когда наклон кривых уменьшается до 0.03 B (n = 4
при α = 0.5), а порядок реакции по HF увеличивается до 5 6, процесс описывает реакция:
≡Ge• + 6HF + 4e+ → H2GeF6 + 4H+. (2.24)
Лишь в этом предельном случае нами предполагается возможность участия HF, точнее
ионов HF2 и F вместо ионов ОН и O2 в начальных стадиях анодного окисления герма-
ния. Эта возможность связана с достаточно высокой напряженностью электрического поля,
которую создают ионы НF2 и F. Так, у иона F с радиусом 0,133 нм она лишь в 1.6 меньше,
чем у иона O2 с радиусом 0.146 нм.
Однако электродный процесс вместо реакции (2.24) может также состоять из начальной
стадии, протекающей с участием ионов ОН и O2:
≡Gе• + 2H2O + 2е+ → =GеООН + 3H+ (2.25a)
и последующей стадии, протекающей с участием HF:
=GeOOH + 6HF + 2е+ → H2GeF6 + 2H2O + H+, (2.25b)
когда константы скоростей этих реакций близки.
2.3. АНОДНОЕ РАСТВОРЕНИЕ КРЕМНИЯ
В настоящее время кремний основной материал электронной промышленности. Он,
как и германий, является представителем элементных полупроводников.
Электрохимическое поведение кремния и германия, связанное с полупроводниковыми
свойствами, аналогично лишь в общих чертах. Уже первые исследователи анодного поведе-
ния полупроводникового кремния А. Улир (1956), Р.Ф. Шмидт с сотрудниками (1957), Д.Р.
Тарнер (1958), Дж. Флинн (1958), Е.А. Ефимов и И.Г. Ерусалимчик (I960), Е.Н. Палеолог с
сотрудниками (1960), С.О. Изидинов с сотрудниками (1960) и другие отметили своеобразие
электрохимического поведения кремния, обусловленное, в первую очередь, его высокой хи-
мической активностью и большей шириной запрещенной зоны (1.11 эВ при 300 К). В боль-
шинстве растворов кремний легко пассивируется вследствие образования на его поверхности
оксидной пленки из SiO2, которая имеет высокое сопротивление и мало растворима в воде и
кислотах. Концентрированные растворы щелочи разъедают кремний с образованием раство-
римого силиката и выделением водорода.
Ранние данные по электрохимии кремния обобщены в работах [1, 2, 29-35].
Интересно, что анодная поляризация кремния, например, в 10 моль/л растворе КОН уже
при перенапряжении 0.1 0.2 В не ускоряет, а подавляет саморастворение кремния, а при пере-
напряжении 0.4 0.5 В анодный ток растворения кремния уменьшается почти в 10 раз [1, 2, 29].
При исследовании механизма анодного растворения кремния и для выявления влияния
на эти процессы его полупроводниковых свойств обычно используют растворы HF и некото-
рых фторидов. В этих растворах влияние пассивационных явлений обычно устраняется, так как
оксиды кремния (IV), взаимодействуя с фторид-ионами, образуют растворимые фторсиликаты
аммония, натрия, сильную кремнийфтороводородную кислоту.
68
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 66
- 67
- 68
- 69
- 70
- …
- следующая ›
- последняя »
