ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
79
Рис. 2.8. Зависимость наклона кривых
b от концентрации носителей в n-GaAs.
1, 2, 3 – значения наклона анодных кривых при поляризации n-GaAs в растворе: 0.3 моль/л
ацетата аммония
в трифторуксусной кислоте; 1 моль/л КОН (в воде); 0,15 моль/л H
2
SO
4
(в воде).
4, 5 – значения наклона обратных кривых для контактов, изготовленных на n-GaAs электро-
осаждением никеля [63] и сплава вольфрам-никель [62].
Прямая 1 отвечает уравнению (2.47, а), прямая 2 – уравнению (2.47, b)
завышены на 1-2 порядка, что в основном связано с коррозионными токами при участии рас-
творённого кислорода. Это видно также из рисунка 2.7, где предельный анодный ток (ток
обмена) i
l
o
для малолегированного n-GaAs заметно
больше тока насыщения диодов.
Наименьшие значения предельного
анодного
тока
(≤10
–8
А/см
2
), по-видимому, получили
С.А. Молчанова и И.Г. Ерусалимчик в атмосфере гелия [52]. Они, как и Ю.В. Плесков [41],
следуя Дж. Флинну [17], заключили, что этот ток должен определяться скоростью генерации
неосновных носителей (пазонов = дырок) i
gen
в ОПЗ полупроводника (А/см
2
):
i
l
o
≈ i
gen
= en
i
L
1
/
τ
p
= en
i
(ε
o
ε
1
kT/e
2
n)
1/2
/
τ
p
= An
–0.5
= 0.48n
–0.5
. (2.50)
Здесь n
i
и n – концентрация электронов в собственном и легированном GaAs n-типа; L
1
– тол-
щина ОПЗ полупроводника; ε
1
– диэлектрическая проницаемость полупроводника;
τ
p
– время
жизни неосновных носителей (пазонов). Коэффициент А = 0.48 А/см
0.5
, который следует из
lg b
(B)
2
№ Ориентация
∇
∇
(111)А (111)В
♥
♥
ο
1
+
×
1
•
◊
♦
2
ο
•
1
•
3
×
◊
ο
+
∇∇
4
∇
♥
♦♥
+
◊
5
◊
♦
×
♦
×
+
•
◊×
ο
+♦
×
0
+
•
•
◊♥
ο
♦∇∇
◊
ο♥
♦
×
+•
♥
♦
∇
◊×
+ο
•
–1
10
15
10
16
10
17
10
18
n, см
–3
lg b
(B )
2
№ О ри ен тац и я
∇
∇ (111)А (111)В
♥ ♥
ο 1 + ×
1 � �• ◊
♦ 2 ο •
1
� �• 3 �
× ◊ο
+ ∇∇ 4 ∇ ♥
♦♥
+� ◊ 5 ◊ ♦
× ♦
×
+
• ◊×
ο +♦
�
×
0 +•
• ��
◊♥ ο
♦∇∇ ◊
ο♥ ♦
× �
+•
�♥ ♦
∇ ◊×
+ο
•
1
10 15 10 16 10 17 10 18 n, см 3
Рис. 2.8. Зависимость наклона кривых b от концентрации носителей в n-GaAs.
1, 2, 3 значения наклона анодных кривых при поляризации n-GaAs в растворе: 0.3 моль/л
ацетата аммония в трифторуксусной кислоте; 1 моль/л КОН (в воде); 0,15 моль/л H2SO4 (в воде).
4, 5 значения наклона обратных кривых для контактов, изготовленных на n-GaAs электро-
осаждением никеля [63] и сплава вольфрам-никель [62].
Прямая 1 отвечает уравнению (2.47, а), прямая 2 уравнению (2.47, b)
завышены на 1-2 порядка, что в основном связано с коррозионными токами при участии рас-
творённого кислорода. Это видно также из рисунка 2.7, где предельный анодный ток (ток
обмена) ilo для малолегированного n-GaAs заметно больше тока насыщения диодов.
Наименьшие значения предельного анодного тока (≤108 А/см2), по-видимому, получили
С.А. Молчанова и И.Г. Ерусалимчик в атмосфере гелия [52]. Они, как и Ю.В. Плесков [41],
следуя Дж. Флинну [17], заключили, что этот ток должен определяться скоростью генерации
неосновных носителей (пазонов = дырок) igen в ОПЗ полупроводника (А/см2):
ilo ≈ igen = eniL1 /τp = eni(εoε1 kT/e2n)1/2/τp = An0.5 = 0.48n0.5. (2.50)
Здесь ni и n концентрация электронов в собственном и легированном GaAs n-типа; L1 тол-
щина ОПЗ полупроводника; ε1 диэлектрическая проницаемость полупроводника; τp время
жизни неосновных носителей (пазонов). Коэффициент А = 0.48 А/см0.5, который следует из
79
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 77
- 78
- 79
- 80
- 81
- …
- следующая ›
- последняя »
