ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
30
A. Генерация - рекомбинация через объёмные уровни в ОПЗ.
Общее выражение для темпа объёмной рекомбинации в ОПЗ через
моноэнергетические рекомбинационные уровни с концентрацией N
t
и
энергетическим положением E
t
даётся статистикой Шокли – Рида – Холла:
()()
[]
()()
[]
kT
t
E
i
E
i
np
p
akT
i
E
t
E
i
nn
n
a
i
npn
p
a
n
a
t
N
R
/exp/exp
)(
2
−++−+
−
=
, (11)
где
n
n
a
T
σ
ν
=
,
p
p
a
T
σ
ν
=
- коэффициенты захвата электрона и дырки,
n
σ
и
p
σ
-эффективные сечения захвата электрона и дырки
соответственно,
0
/3 mkT
T
=
ν
- тепловая скорость свободного электрона.
Для подложки МДП-структуры в стационарных условиях
2
i
npn =
.
Следовательно, суммарная скорость рекомбинации равняется нулю , т.е.
скорость генерации в точности равна скорости рекомбинации.
В переходном состоянии, точнее в состоянии глубокого обеднения ,
в обеднённой области p << n
i
и n << n
i
. Тогда
()()()()
g
i
n
kT
t
E
i
E
p
akT
i
E
t
E
n
a
i
n
t
N
p
a
n
a
R
τ
−=
−+−
=
/exp/exp
, (12)
где
−
+
−
=
kT
t
E
i
E
n
kT
i
E
t
E
pg
expexp
0
0
τττ
- объемное генерационное
время жизни носителей заряда;
t
N
p
a
p
1
0
=
τ
,
t
N
n
a
n
1
0
=
τ
. Если
уровень рекомбинации E
t
соответствует середине запрещенной зоны
E
i
, то
0
0
npg
τ
τ
τ
+
=
. Если дополнительно σ
p
= σ
n
= σ, то
Tt
N
ng
σν
τ
τ
22
0
=
=
, (13)
т.е. генерационное время примерно равно времени жизни неосновных
носителей заряда. То, что в состоянии глубокого обеднения скорость
рекомбинации отрицательна, означает, что электронно- дырочные пары
генерируются в обедненной области со скоростью G
o
= – R = n
i
/ τ
g
.
Если рекомбинационные уровни распределены в запрещенной зоне
полупроводника непрерывно, то
∫
−
+
−
=
C
E
V
E
kT
t
E
i
E
p
a
kT
i
E
t
E
n
a
t
dE
t
ED
i
n
p
a
n
a
G
expexp
)(
0
, (14)
30 A. Генерация -рекомб инация черезоб ъ ёмны еуровни в О П З. О б щ еевы раж ениедля темпаоб ъ ёмной рекомб инации в О П З через моноэнергетические рекомб инационны е уровни с концентрацией Nt и энергетическим полож ением Et даётся статистикой Ш окли – Рида– Холла: N t an a p ( pn − ni2 ) R= , (11) an [n + ni exp((Et − Ei ) / kT )]+ a p [ p + ni exp((Ei − Et ) / kT )] a =ν T σ p где an = ν T σ n , p - коэф ф ициенты захвата электрона и ды рки, σ n и σ p -эф ф ективны е сечения захвата электрона и ды рки соответственно,ν T = 3kT / m0 - тепловая скорость своб одного электрона. Д ля подлож ки М Д П -структуры в стационарны х условия х pn = ni2 . Следовательно, суммарная скорость рекомб инации равня ется нулю , т.е. скорость генерации в точности равнаскорости рекомб инации. В переходном состоя нии, точнеев состоя нии глуб окого об еднения , в об еднённой об ласти p << ni и n << ni . Т огда a n a p N t ni n R= =− i , (12) τg a n exp((Et − Ei ) / kT )+ a p exp((Ei − Et ) / kT ) где τ g = τ p exp t − i + τ n exp Ei − Et - об ъ емное генерационное E E 0 kT 0 kT время ж изни носителей заря да; τ p = 1 a p N t , τ n = 1 an N t . Е сли 0 0 уровень рекомб инации Et соответствует середине запрещ енной зоны Ei, то τ g = τ p + τ n . Е сли дополнительно σp = σn = σ, то 0 0 τ g = 2τ n = 2 N t σν T , (13) 0 т.е. генерационное время примерно равно времени ж изни неосновны х носителей заря да. Т о, что в состоя нии глуб окого об еднения скорость рекомб инации отрицательна, означает, что электронно-ды рочны е пары генерирую тся в об едненной об ласти со скоростью Go = – R = ni / τ g . Е сли рекомб инационны еуровни распределены в запрещ енной зоне полупроводниканепреры вно, то EC an a p ni D( Et ) dEt G0 = ∫ , (14) E − Ei E − Et EV an exp t + a p exp i kT kT
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 28
- 29
- 30
- 31
- 32
- …
- следующая ›
- последняя »