ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
32
носителей заряда. D
SS
имеет размерность [см
-2
эВ
-1
], σ - [см
2
]. Процессы
поверхностной генерации и рекомбинации обычно описываются с
помощью параметра, называемого скоростью поверхностной
рекомбинации, который может быть определен следующим образом :
kT
ss
D
g
S
T
πσν
2
1
=
. (20)
Тогда скорость поверхностной генерации можно записать в виде
i
n
g
S
s
G
=
. (21)
Необходимо отметить , что скорость поверхностной рекомбинации
зависит от плотности поверхностных состояний с энергетическими
уровнями, близкими к середине запрещенной зоны , где она значительно
ниже своих типовых значений у краёв разрешенных зон.
Экспериментальные измерения дают значения скорости поверхностной
рекомбинации порядка 1 ÷ 100 см / с, что соответствует плотности
поверхностных состояний около 10
9
÷ 10
11
см
-2
эВ
-1
.
Плотность тока поверхностной генерации есть произведение заряда
электрона на скорость генерации:
i
n
n
qSj
генпов
=
..
. (22)
Сравним это выражение с выражением для тока объемной генерации (17):
W
S
nWq
nqS
j
j
gg
ig
ig
геноб
генпов
τ
τ
==
)/(
..
..
. (23)
Для МДП-структуры с S
g
= 1 см / с, τ
g
= 1 мкс и W = 10 мкм ток
поверхностной генерации в 1000 раз меньше тока объемной генерации.
В . Диффузионный поток неосновных носителей в ОПЗ
У края обеднённой области концентрация неосновных носителей
равна нулю и возрастает экспоненциально по мере удаления от неё до
величины , соответствующей тепловому равновесию . Распределение
концентрации неосновных носителей в полупроводнике можно найти,
решив стационарное уравнение диффузии
0
22
2
=
∆
−
∆
n
L
n
dx
nd
(24)
с граничными условиями
A
N
i
nxn
2
)0( −==∆
;
0
)
(
=
∞
→
∆
x
n
, (25)
где
nn
D
n
L τ=
- диффузионная длина неосновных носителей (в данном
случае электронов ); D
n
- коэффициент диффузии для электронов; τ
n
-
время жизни неосновных носителей .
32 носителей заря да. DSS имеет размерность [см -2 эВ -1], σ - [см 2]. П роцессы поверхностной генерации и рекомб инации об ы чно описы ваю тся с помощ ью параметра, назы ваемого скоростью поверхностной рекомб инации, которы й мож ет б ы ть определен следую щ им об разом: S g = 1 σν T πDss kT . (20) 2 Т огдаскорость поверхностной генерации мож но записать в виде Gs = S g ni . (21) Н еоб ходимо отметить, что скорость поверхностной рекомб инации зависит от плотности поверхностны х состоя ний с энергетическими уровня ми, б лизкими к середине запрещ енной зоны , где она значительно ниж е своих типовы х значений у краёв разреш енны х зон. Э кспериментальны е измерения даю т значения скорости поверхностной рекомб инации поря дка 1 ÷ 100 см/с, что соответствует плотности поверхностны х состоя ний около 109 ÷ 1011 см -2 эВ -1. П лотность тока поверхностной генерации есть произведениезаря да электронанаскорость генерации: jп ов.ген . = qS n ni . (22) Сравним это вы раж ениес вы раж ением для токаоб ъ емной генерации (17): jп ов.ген . qS g ni S gτ g = = . (23) jоб.ген . q(W / τ g )ni W Д ля М Д П -структуры с Sg = 1 см/с, τg = 1 мкс и W = 10 мкм ток поверхностной генерации в 1000 разменьш етокаоб ъ емной генерации. В . Д иф ф узионны й потокнеосновны х носителей в О П З У края об еднённой об ласти концентрация неосновны х носителей равна нулю и возрастает экспоненциально по мере удаления от неё до величины , соответствую щ ей тепловому равновесию . Распределение концентрации неосновны х носителей в полупроводнике мож но найти, реш ив стационарноеуравнениедиф ф узии d 2 ∆n − ∆n = 0 dx 2 L2n (24) с граничны ми условия ми ∆n( x = 0) = − ni2 N A ; ∆n( x → ∞) = 0 , (25) где Ln = Dnτ n - диф ф узионная длинанеосновны х носителей (в данном случае электронов); Dn - коэф ф ициент диф ф узии для электронов; τn - время ж изни неосновны х носителей.
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 30
- 31
- 32
- 33
- 34
- …
- следующая ›
- последняя »