Составители:
Рубрика:
3
полуметалла или полупроводника добавляются размерные эффекты. Так как энергия фотона
в видимой области намного больше ширины щели в энергетическом спектре
сверхпроводника, то влияние сверхпроводимости на опаловую матрицу со сверхпроводящей
пленкой не может быть слишком большим в оптической области. В случае многофазного
фотонного кристалла возможно создание многоцветных туннельных структур, аналогичных
джозефсоновским
средам в неоднородных сверхпроводниках.
Интерес к опаловым матрицам с тонкопленочными покрытиями вызван практически
неограниченной номенклатурой материалов тонких пленок, диапазоном толщин отдельных
слоев и многослойных структур от десятков ангстрем до единиц микрометров, а также
другими достоинствами технологии тонких пленок. В настоящее время отсутствуют
публикации об исследованиях различных методов нанесения тонких пленок в вакууме на
подложки с рельефом поверхности синтетического опала. Особенностью процесса
формирования тонких пленок на строго упорядоченных полусферах поверхности опаловой
матрицы является переменный угол осаждения пленкообразующих частиц. В результате
этого искажается, по сравнению с «гладкими» образцами, характер появления зародышей,
образования монослоя осаждаемого материала и дальнейшего формирования
тонкопленочного покрытия.
Целью данного направления исследований является экспериментальное определение
влияния метода нанесения тонких пленок в вакууме на геометрические, электрические,
оптические и другие свойства поверхности опаловых матриц с тонкопленочными
покрытиями.
Рассмотрены методы термического испарения, ионно-плазменного магнетронного
распыления и осаждения тонких пленок из ионного пучка [2]. В качестве исследуемых
характеристик выбраны рельеф тонкопленочного покрытия, электрическое сопротивление и
вид отражения луча лазера. Эти характеристики определялись на подложках из
синтетического опала и на «гладких» ситалловых пластинах, на которые тонкопленочное
покрытие наносилось одновременно. Заполнение межглобулярных пустот опаловой матрицы
можно осуществлять в жидкой или газовой среде. Однако, с нашей точки зрения, наиболее
перспективным методом является нанесение тонких пленок в вакууме. Такое утверждение
связано с расширением номенклатуры материалов, включая сплавы и другие
многокомпонентные вещества, а также, однородностью их состава. Основное препятствие
для использования технологии тонких пленок связано с ограниченной проводимостью
нанометровых каналов, через которые молекулы осаждаемого материала должны
проникнуть вглубь опала.
Следует отметить, что в межглобулярных пустотах опала практически всегда имеет
место молекулярный режим течения газа, так как даже при атмосферном давлении длина
свободного пробега молекул воздуха, составляющая 65,1нм, соизмерима с размерами этих
пустот. Процесс заполнения межглобулярных пустот можно представить как попадание
атомов, молекул, ионов, диполей и т.п. на пористую поверхность и последующее их
движение вглубь материала подложки. Этот процесс можно описать с помощью расчета
проводимости, аппроксимируя пустоты элементарными каналами: прямоугольного,
эллиптического, цилиндрического или конического сечения, а также трубопроводом в виде
щели.
Сравнение результатов расчета проводимости каналов различной формы для воздуха
при температуре 293°К показал, что рекомендуется использовать каналы треугольной формы
как наиболее близкие по внешнему виду к реальным каналам.
Экспериментальная проверка
проводимости каналов образца синтетического опала
объемом 5,6×10
–8
м
3
осуществлялась методом постоянного объема на вакуумном стенде по
изменению потока газовыделения во времени. Результаты расчета и экспериментов
оказались достаточно близкими.
Как известно, различие методов нанесения тонких пленок в вакууме заключается в
способе генерации частиц материала (атомы, молекулы, ионы, кластеры), в их энергии и
полуметалла или полупроводника добавляются размерные эффекты. Так как энергия фотона в видимой области намного больше ширины щели в энергетическом спектре сверхпроводника, то влияние сверхпроводимости на опаловую матрицу со сверхпроводящей пленкой не может быть слишком большим в оптической области. В случае многофазного фотонного кристалла возможно создание многоцветных туннельных структур, аналогичных джозефсоновским средам в неоднородных сверхпроводниках. Интерес к опаловым матрицам с тонкопленочными покрытиями вызван практически неограниченной номенклатурой материалов тонких пленок, диапазоном толщин отдельных слоев и многослойных структур от десятков ангстрем до единиц микрометров, а также другими достоинствами технологии тонких пленок. В настоящее время отсутствуют публикации об исследованиях различных методов нанесения тонких пленок в вакууме на подложки с рельефом поверхности синтетического опала. Особенностью процесса формирования тонких пленок на строго упорядоченных полусферах поверхности опаловой матрицы является переменный угол осаждения пленкообразующих частиц. В результате этого искажается, по сравнению с «гладкими» образцами, характер появления зародышей, образования монослоя осаждаемого материала и дальнейшего формирования тонкопленочного покрытия. Целью данного направления исследований является экспериментальное определение влияния метода нанесения тонких пленок в вакууме на геометрические, электрические, оптические и другие свойства поверхности опаловых матриц с тонкопленочными покрытиями. Рассмотрены методы термического испарения, ионно-плазменного магнетронного распыления и осаждения тонких пленок из ионного пучка [2]. В качестве исследуемых характеристик выбраны рельеф тонкопленочного покрытия, электрическое сопротивление и вид отражения луча лазера. Эти характеристики определялись на подложках из синтетического опала и на «гладких» ситалловых пластинах, на которые тонкопленочное покрытие наносилось одновременно. Заполнение межглобулярных пустот опаловой матрицы можно осуществлять в жидкой или газовой среде. Однако, с нашей точки зрения, наиболее перспективным методом является нанесение тонких пленок в вакууме. Такое утверждение связано с расширением номенклатуры материалов, включая сплавы и другие многокомпонентные вещества, а также, однородностью их состава. Основное препятствие для использования технологии тонких пленок связано с ограниченной проводимостью нанометровых каналов, через которые молекулы осаждаемого материала должны проникнуть вглубь опала. Следует отметить, что в межглобулярных пустотах опала практически всегда имеет место молекулярный режим течения газа, так как даже при атмосферном давлении длина свободного пробега молекул воздуха, составляющая 65,1нм, соизмерима с размерами этих пустот. Процесс заполнения межглобулярных пустот можно представить как попадание атомов, молекул, ионов, диполей и т.п. на пористую поверхность и последующее их движение вглубь материала подложки. Этот процесс можно описать с помощью расчета проводимости, аппроксимируя пустоты элементарными каналами: прямоугольного, эллиптического, цилиндрического или конического сечения, а также трубопроводом в виде щели. Сравнение результатов расчета проводимости каналов различной формы для воздуха при температуре 293°К показал, что рекомендуется использовать каналы треугольной формы как наиболее близкие по внешнему виду к реальным каналам. Экспериментальная проверка проводимости каналов образца синтетического опала объемом 5,6×10–8м3 осуществлялась методом постоянного объема на вакуумном стенде по изменению потока газовыделения во времени. Результаты расчета и экспериментов оказались достаточно близкими. Как известно, различие методов нанесения тонких пленок в вакууме заключается в способе генерации частиц материала (атомы, молекулы, ионы, кластеры), в их энергии и 3
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 30
- 31
- 32
- 33
- 34
- …
- следующая ›
- последняя »