Наноразмерные структуры: классификация, формирование и исследование. Булыгина Е.В - 34 стр.

Рис. 1.1.2.. Схема трехпозиционной установки для нанесения тонких пленок в вакууме: 1 –
вакуумная камера, 2 – ионно-лучевой источник, 3 – магнетрон, 4 – дуговой источник, 5 –
наклоняемый подложкодержатель, 6 – нагреватель подложек, 7 – заслонка, 8 – привод
поворота заслонки, 9 – привод вращения подложкодержателя.


     Анализ существующих методов нанесения тонких пленок [1] показал, что для решения
проблемы заполнения межглобулярных пустот синтетического опала наибольший интерес
могут представлять ионно-плазменные методы, в которых заметную долю составляет
диффузное движение атомов или молекул.

                5.2. Внедрение материалов в поры опаловой матрицы
                           электрохимическим осаждением

     Для внедрения материалов в пустоты опаловой матрицы нами использовался метод
электрохимического осаждения.
     Использование электрохимического осаждения позволяет равномерно распределить
материал внедрения (в экспериментах использовался никель) по порам опаловой матрицы.
При этом на свойства получаемого нанокомпозита оказывает влияние множество факторов,
которые приведены в таблице 1.1.2.




                                                                                    3