ВУЗ:
Составители:
Существует несколько способов изготовления полупроводниковых
тензопреобразователей: вырезание из полупроводникового монокристалла;
выращивание монокристалла посредством конденсации паров; нанесение
на некоторые виды подложек тонких пленок со свойствами монокристал-
лов; получение диффузионным способом. Особенно широкое применение
в изготовлении общепромышленных тензорезисторных ИПД в силу своих
высоких механических, изолирующих и теплоустойчивых качеств получи-
ла технология КНС — «кремний на сапфире». Упрощенная конструкция
чувствительного элемента тензопреобразователя, основанного на данной
технологии, представлена на рис. 3.16. Чувствительный элемент состоит из
сапфировой подложки 3, на которую диффузионным способом нанесены
тензорезисторы 4 (чаще всего в виде уравновешенного измерительного
моста Уитстона). Подложка припаяна твердым припоем 2 к титановой
мембране 1.
3
4
Рис. 3.16. Чувствительный элемент
полупроводникового
2
тензопреобразователя:
1
1 – титановая мембрана; 2 - серебросо-
держащий припой; 3 – сапфировая под-
ложка; 4 – тензорезисторы
Чувствительный элемент включается в общую измерительную цепь
преобразователя давления, структурная схема которого представлена на
рис. 3.17.
Деформация измерительной мембраны под воздействием внешнего
давления Р приводит к локальным деформациям тензорезисторного моста,
состоящего из постоянных тензорезисторов R
2
, R
3
, R
4
и переменного R
1
. В
результате происходит разбаланс моста, который преобразуется электрон-
ным блоком и в унифицированный выходной электрический сигнал.
К преимуществам данного типа чувствительных элементов можно
отнести достаточно высокий температурный диапазон работоспособности
(от -160 до +1500°С), хорошую защищенность чувствительного элемента
от воздействия любой агрессивной среды, налаженное серийное производ-
ство, низкую стоимость.
123
Существует несколько способов изготовления полупроводниковых
тензопреобразователей: вырезание из полупроводникового монокристалла;
выращивание монокристалла посредством конденсации паров; нанесение
на некоторые виды подложек тонких пленок со свойствами монокристал-
лов; получение диффузионным способом. Особенно широкое применение
в изготовлении общепромышленных тензорезисторных ИПД в силу своих
высоких механических, изолирующих и теплоустойчивых качеств получи-
ла технология КНС «кремний на сапфире». Упрощенная конструкция
чувствительного элемента тензопреобразователя, основанного на данной
технологии, представлена на рис. 3.16. Чувствительный элемент состоит из
сапфировой подложки 3, на которую диффузионным способом нанесены
тензорезисторы 4 (чаще всего в виде уравновешенного измерительного
моста Уитстона). Подложка припаяна твердым припоем 2 к титановой
мембране 1.
4
3 Рис. 3.16. Чувствительный элемент
2 полупроводникового
тензопреобразователя:
1
1 титановая мембрана; 2 - серебросо-
держащий припой; 3 сапфировая под-
ложка; 4 тензорезисторы
Чувствительный элемент включается в общую измерительную цепь
преобразователя давления, структурная схема которого представлена на
рис. 3.17.
Деформация измерительной мембраны под воздействием внешнего
давления Р приводит к локальным деформациям тензорезисторного моста,
состоящего из постоянных тензорезисторов R2, R3, R4 и переменного R1. В
результате происходит разбаланс моста, который преобразуется электрон-
ным блоком и в унифицированный выходной электрический сигнал.
К преимуществам данного типа чувствительных элементов можно
отнести достаточно высокий температурный диапазон работоспособности
(от -160 до +1500°С), хорошую защищенность чувствительного элемента
от воздействия любой агрессивной среды, налаженное серийное производ-
ство, низкую стоимость.
123
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 121
- 122
- 123
- 124
- 125
- …
- следующая ›
- последняя »
