Управление качеством. Ефимов В.В. - 65 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

Первый вариант. Поле рассеиван ия з начительно ме ньше поля допу ска, ω < Т

(рис.10.11, а). Технологический процесс протекает нормально, требуется только

поддерживать су ще ству юще е состояние.

Второй вариант. Поле рассеивания равно или немного меньше поля допу ска,

ω = Т (рис. 10.11, б). Те хнологичес ки й процесс протека ет нормально, но нет запаса

надежности. Можно провести мероприятия по уменьшению поля рассеивания,

если затраты на эти мероприятия будут меньше, чем потери от возм о ж н ого

брака.

Третий вариант. Поле рассеивания меньше поля допуска, но смещено влево

(ил и вправо) от границы поля допуска (рис.10.11, в). Процесс ненорм аль ный.

Необходимо добиться смещения середины поля рассеивания к центру поля

доп ус ка .

Четвертый вариант. Поле рассе ива ния больше поля допуска (ω > Т) и

размещено симметрично относительно центра поля допуска (рис. 10.11, г). Процесс

ненормальный. Необходимо провести мероприятия по ум еньшению поля

рассеивания.

Пятый вариант. Поле рассе ив ания больше поля допуска и смещено

относительно центра допуска (рис.10.11, д). Процесс ненормальный. Это

худший вариант взаимного положе ния полей, при котором количество

забракованных издел ий возрастае т. Необходимо прежде всего добиться

симмет ричн ог о расп оложения полей, посчитать затраты от брака и принять (или

не принять) дополнительные мероприятия по уменьшению поля рассеивания.

Для наше г о конкретного примера допуск на диаметр составляет 0,05 мм, а

поле рассеивания 0,045 мм. Таким образом, поле рассеивания меньше величины

поля допу ска. Одновременно минимальное и максимальное измеренные значения

диаметров меньше соответствующих минимальной и максимальной гра-