Составители:
Рубрика:
84
Используем для связи светового потока Ф и энергии оптического излучения,
падающего на фоторезистор, P при энергии кванта hí соотношение
/ 1
; .
P S P dl c
h h T
ν
ν ν λ
Φ = = = =
(5.17)
Подставляя это выражение в формулу (5.16), получаем для токовой
чувствительности S
i
фоторезистора
i p p
2
( )[ (1 )] .
q w
S b U
h� l
ηαλ τ µ
= +
(5.18)
Из уравнения (5.18) следует, что токовая чувствительность фоторезистора
зависит от характеристик оптического излучения ë, ç; геометрии фотоприемника
w, l; характеристик полупроводникового материала ì
p
, b, á, и выбора рабочей
точки U.
На рисунке 5.5а показаны вольт-амперные характеристики фоторезистора
при различных уровнях освещения.
I
ф
U
Ф=0
Ф
1
Ф
2
>Ф
1
Чувствительность, отн. ед.
Длина волны, мкм
0
20
40
60
80
100
1
1 2 3 4 5 6 7 8 9
10 11 12
2 3 4 5 6 7
а б
Рис. 5.5.
а) вольт-амперные характеристики фоторезистора при различных уровнях освеще-
ния; б) Спектральная чувствительность фоторезисторов на основе CdS (кривая 1),
CdSe (2), PbS (3), твердого раствора PbS-PbSe (4, 5), PbSe (6), PbSn(Te) (7) [84]
Для фоторезисторов характерны стабильность фотоэлектрических
характеристик во времени, малая инерционность, простота устройства,
допускающая различные конструктивно-технологические решения. Выбор
полупроводникового материала позволяет получить избирательную
фоточувствительность. Фоторезисторы на основе CdS и CdSe чувствительны
к видимому и УФ излучению, а фоторезисторы на основе InSb и СdHgTe – к
длинноволновому ИК излучению. На рисунке 5.5б приведены спектральные
зависимости фоточувствительности различных фоторезисторов.
5.4. Фотодиоды на основе p-n перехода
Используем для связи светового потока Ф и энергии оптического излучения,
падающего на фоторезистор, P при энергии кванта hí соотношение
P / S P dl 1 c
Φ= = ;ν = = .
hν hν T λ
(5.17)
Подставляя это выражение в формулу (5.16), получаем для токовой
чувствительности Si фоторезистора
q w
Si = (ηαλ )[τ p µp (1 + b)] 2 U .
h� l
(5.18)
Из уравнения (5.18) следует, что токовая чувствительность фоторезистора
зависит от характеристик оптического излучения ë, ç; геометрии фотоприемника
w, l; характеристик полупроводникового материала ìp, b, á, и выбора рабочей
точки U.
На рисунке 5.5а показаны вольт-амперные характеристики фоторезистора
при различных уровнях освещения.
Iф
Ф2>Ф1 100
1 2 3 4 5 6 7
Чувствительность, отн. ед.
Ф1 80
Ф=0 60
U 40
20
0
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
Длина волны, мкм
а б
Рис. 5.5.
а) вольт-амперные характеристики фоторезистора при различных уровнях освеще-
ния; б) Спектральная чувствительность фоторезисторов на основе CdS (кривая 1),
CdSe (2), PbS (3), твердого раствора PbS-PbSe (4, 5), PbSe (6), PbSn(Te) (7) [84]
Для фоторезисторов характерны стабильность фотоэлектрических
характеристик во времени, малая инерционность, простота устройства,
допускающая различные конструктивно-технологические решения. Выбор
полупроводникового материала позволяет получить избирательную
фоточувствительность. Фоторезисторы на основе CdS и CdSe чувствительны
к видимому и УФ излучению, а фоторезисторы на основе InSb и СdHgTe – к
длинноволновому ИК излучению. На рисунке 5.5б приведены спектральные
зависимости фоточувствительности различных фоторезисторов.
5.4. Фотодиоды на основе p-n перехода
84
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 82
- 83
- 84
- 85
- 86
- …
- следующая ›
- последняя »
