Составители:
33
дополнительных внешних фокусирующих элементов или отражаю-
щих покрытий, нанесенных на кристалл (рис. 20, а).
Потери излучения в ПИД плоской конструкции (рис. 20, б) обу-
словлены тем, что на границе "кристалл - воздух" имеет место полное
внутреннее отражение той части потока, угол падения которой на
границу сред превышает критический.
Описание лабораторной установки
Установка (
рис. 21) состоит из фотоприемной головки 1 с фото-
диодом 2, расположенным в фокальной плоскости объектива 3, и
набора испытываемых ПИД 4, устанавливаемых на поворотном
устройстве 5.
Питание на ПИД 4 подается от блока питания 8, встроенного в
персональную ЭВМ 7. Излучение ПИД модулируется напряжением
питания с частотой 50 Гц. Сигнал от фотодиода
поступает через
аналого-цифровой преобразователь 6 в ПЭВМ 7.
~220 В
1
2
3
5
θ
4
6
8
7
Рис. 21. Схема лабораторной установки
Порядок выполнения работы
1. Вставить загрузочную дискету в дисковод.
2. Включить ПЭВМ выключателем слева на задней стенке сис-
темного блока и монитор выключателем на передней стенке монитора
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 31
- 32
- 33
- 34
- 35
- …
- следующая ›
- последняя »
