ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
28
1.13. Связь деградационных явлений в фоторезисторах, светодиодах
и полупроводниковых лазерах с фотостимулированными процессами
Как показывают исследования, с протеканием описанных выше
процессов связана нестабильность фотоэлектрических параметров
фоторезисторов и других фотоэлектрических приборов на основе
соединений А
II
B
IV
и гетероструктур с этими соединениями.
Нестабильность, в частности, проявляется в том, что освещение вызывает
изменение фоточувствительности приборов (уменьшение или увеличение).
Длительное хранение приборов в темноте, как правило, приводит к
восстановлению исходных параметров. То есть процессы, приводящие к
нестабильности, являются обратимыми.
Изучение явления уменьшения под действием света
фоточувствительности фоторезисторов на основе спеченных слоев
Cd:Cu:Cl (фотоутомляемость) показало, что в этих слоях (как и в
монокристаллах Cd:Cu) уменьшение фототока сопровождается
уменьшением интенсивности ИК-1 полосы люминесценции, а также
уменьшением концентрации центров прилипания. Сопоставление
изменений соответствующих характеристик монокристаллов и
фоторезисторов, а также измерение энергий активации процессов
уменьшения фоточувствительности и восстановления исходного состояния
показали, что в резисторах, как и в монокристаллах, фотоутомляемость
обусловлена фотостимулированным процессом объединения мелких
доноров Cd
i
в ассоциаты, представляющие собой центры быстрой
рекомбинации.
Увеличение фоточувствительности фоторезисторов связывается с
другими процессами фотостимулированного преобразования локальных
центров, которые наблюдались в монокристаллах CdS. В результате этих
процессов имеет место распад ДА-пар и сложных комплексов, состоящих
из ДА-пар и глубоких акцепторов, и с фотостимулированным отходом
доноров от стоков.
Таким образом, протекание ФХР может служить причиной световой
нестабильности фоторезисторов, заключающейся в том, что данной
интенсивности света могут соответствовать разные значения фототока в
зависимости от предыстории освещения образца. С фотостимулированными
процессами преобразования локальных центров может быть также связана их
температурная нестабильность – изменение темнового тока (I
т
) и фототока
(I
ф
) при нагревании и охлаждении образца и появление гистерезисных петель
на зависимостях (I
т
) и (I
ф
) при термоциклировании и переменном освещении.
1.14. Расчет концентрации дефектов, образующихся в результате ФХР
1. Рассмотрим реакцию образования комплекса в результате
перезарядки при освещении центра прилипания для электронов, его
диффузии и объединения с другим дефектом. В этом случае кинетика
1.13. Связь деградационных явлений в фоторезисторах, светодиодах и полупроводниковых лазерах с фотостимулированными процессами Как показывают исследования, с протеканием описанных выше процессов связана нестабильность фотоэлектрических параметров фоторезисторов и других фотоэлектрических приборов на основе соединений АIIBIV и гетероструктур с этими соединениями. Нестабильность, в частности, проявляется в том, что освещение вызывает изменение фоточувствительности приборов (уменьшение или увеличение). Длительное хранение приборов в темноте, как правило, приводит к восстановлению исходных параметров. То есть процессы, приводящие к нестабильности, являются обратимыми. Изучение явления уменьшения под действием света фоточувствительности фоторезисторов на основе спеченных слоев Cd:Cu:Cl (фотоутомляемость) показало, что в этих слоях (как и в монокристаллах Cd:Cu) уменьшение фототока сопровождается уменьшением интенсивности ИК-1 полосы люминесценции, а также уменьшением концентрации центров прилипания. Сопоставление изменений соответствующих характеристик монокристаллов и фоторезисторов, а также измерение энергий активации процессов уменьшения фоточувствительности и восстановления исходного состояния показали, что в резисторах, как и в монокристаллах, фотоутомляемость обусловлена фотостимулированным процессом объединения мелких доноров Cdi в ассоциаты, представляющие собой центры быстрой рекомбинации. Увеличение фоточувствительности фоторезисторов связывается с другими процессами фотостимулированного преобразования локальных центров, которые наблюдались в монокристаллах CdS. В результате этих процессов имеет место распад ДА-пар и сложных комплексов, состоящих из ДА-пар и глубоких акцепторов, и с фотостимулированным отходом доноров от стоков. Таким образом, протекание ФХР может служить причиной световой нестабильности фоторезисторов, заключающейся в том, что данной интенсивности света могут соответствовать разные значения фототока в зависимости от предыстории освещения образца. С фотостимулированными процессами преобразования локальных центров может быть также связана их температурная нестабильность – изменение темнового тока (Iт) и фототока (Iф) при нагревании и охлаждении образца и появление гистерезисных петель на зависимостях (Iт) и (Iф) при термоциклировании и переменном освещении. 1.14. Расчет концентрации дефектов, образующихся в результате ФХР 1. Рассмотрим реакцию образования комплекса в результате перезарядки при освещении центра прилипания для электронов, его диффузии и объединения с другим дефектом. В этом случае кинетика 28
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 26
- 27
- 28
- 29
- 30
- …
- следующая ›
- последняя »