Составители:
343
Мощность W
и
электронного пучка в импульсе: W
и
=IUfτ.
Производительность процесса V и глубина обработки h зависят
от W
и
, площади поперечного сечения луча F, а также теплофи-
зических характеристик материала заготовки.
Электронно-лучевым методом можно обрабатывать как
электропроводящие, так и неэлектропроводящие материалы с
любыми механическими свойствами. Однако предпочтительнее
обработка деталей из электропроводящих материалов или дета-
лей с токопроводящими покрытиями, так как в этом случае ста-
тический заряд отводится путем заземления
детали. Наличие
статического заряда оказывает дефокусирующее действие на
поток электронов.
Отечественные электронно-лучевые установки для размер-
ной обработки типа ЭЛУРО-П обычно работают в многоим-
пульсном режиме с частотой следования импульсов электрон-
ного пучка 10...1000 Гц и длительностью импульса 15....100 мкс
при ускоряющем напряжении 80....100 кВ. При этом диаметр
электронного пучка в фокальном пятне
составляет 10...50 мкм и
плотность потока энергии 10
7
....10
8
Вт/см
2
. Основная область
применения ЭЛО – обработка узких канавок и изготовление
малых отверстий (перфорирование).
Преимущества ЭЛО: высокая производительность процес-
са, отсутствие химического взаимодействия, возможность об-
работки труднодоступных мест, обработка очень малых отвер-
стий и узких канавок. Недостатки ЭЛО: необходимость созда-
ния вакуума (на это требуется 10...15 мин), сложность и высо-
кая стоимость установок,
необходимость защиты обслуживаю-
щего персонала от рентгеновского излучения.
Процессы лазерной обработки реализуются на установках
двух типов: на базе твердотельных оптических квантовых гене-
раторов (ОКГ) и на базе газовых ОКГ.
В установках типа «Квант» в качестве активной рабочей
среды используют твердые тела – стержни из искусственного
рубина, стекла с добавками неодима, алюмонатриевого граната
и др. Активной средой газовых ОКГ является смесь газов –
обычно СО
2
+Не+N
2
(лазеры на СО
2
), лазеры типа ЛТ-1, ЛТ-1-5
и др.
Мощность Wи электронного пучка в импульсе: Wи=IUfτ.
Производительность процесса V и глубина обработки h зависят
от Wи, площади поперечного сечения луча F, а также теплофи-
зических характеристик материала заготовки.
Электронно-лучевым методом можно обрабатывать как
электропроводящие, так и неэлектропроводящие материалы с
любыми механическими свойствами. Однако предпочтительнее
обработка деталей из электропроводящих материалов или дета-
лей с токопроводящими покрытиями, так как в этом случае ста-
тический заряд отводится путем заземления детали. Наличие
статического заряда оказывает дефокусирующее действие на
поток электронов.
Отечественные электронно-лучевые установки для размер-
ной обработки типа ЭЛУРО-П обычно работают в многоим-
пульсном режиме с частотой следования импульсов электрон-
ного пучка 10...1000 Гц и длительностью импульса 15....100 мкс
при ускоряющем напряжении 80....100 кВ. При этом диаметр
электронного пучка в фокальном пятне составляет 10...50 мкм и
плотность потока энергии 107....108 Вт/см2. Основная область
применения ЭЛО обработка узких канавок и изготовление
малых отверстий (перфорирование).
Преимущества ЭЛО: высокая производительность процес-
са, отсутствие химического взаимодействия, возможность об-
работки труднодоступных мест, обработка очень малых отвер-
стий и узких канавок. Недостатки ЭЛО: необходимость созда-
ния вакуума (на это требуется 10...15 мин), сложность и высо-
кая стоимость установок, необходимость защиты обслуживаю-
щего персонала от рентгеновского излучения.
Процессы лазерной обработки реализуются на установках
двух типов: на базе твердотельных оптических квантовых гене-
раторов (ОКГ) и на базе газовых ОКГ.
В установках типа «Квант» в качестве активной рабочей
среды используют твердые тела стержни из искусственного
рубина, стекла с добавками неодима, алюмонатриевого граната
и др. Активной средой газовых ОКГ является смесь газов
обычно СО2+Не+N2 (лазеры на СО2), лазеры типа ЛТ-1, ЛТ-1-5
и др.
343
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 339
- 340
- 341
- 342
- 343
- …
- следующая ›
- последняя »
