Нанокластеры. Методы синтеза нанокластеров - 17 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ЮФУ | Ростов-на-Дону

Составители: 

Рубрика: 

17
2.3.2 Источники кластеров на основе разрядки плазмы
Другая группа источников использует метод разрядки плазмы для
получения паров материала, из которых впоследствии формируются
нанокластеры.
В источниках данного типа пространство между двумя электродами,
изготовленными из исходного материала, заполняется буферным газом.
Приложенное к электродам напряжение вызывает протекание через газ
электрического тока, в результате чего газ обращается в плазму. Разрядка плазмы
приводит к абляции вещества с материала электродов. Напомним, что абляцией в
физике твердого тела называется процесс уноса (испарения) вещества с
поверхности твердого тела потоком горячего газа.
Источники описанного типа, в отличие от источников на основе нагревания,
могут использоваться для образования паров материалов с высокими
температурами плавления. В принципе, такие источники позволяют генерировать
кластерный пучок высокой интенсивности, однако, тем не менее, до настоящего
времени они не нашли широкого применения в нано- и микротехнологии.
На рисунке 5 приведена общая схема установки, в которой используется
источник кластеров на основе разрядки плазмы [13].
Установки для осаждения кластеров и пленок с использованием источников
данного типа имеют следующее общее строение: они состоят из камеры, в
которой происходит образование паров исходного материала, камеры роста
(камеры, в которой происходит рост кластеров), и камеры осаждения. То есть, при
использовании источников данного типа процессы образования паров материала
и рост кластеров происходят в различных частях пространства.
2.3.3 Источники кластеров на основе испарения лазером
В основе работы источников лежит испарение исходного материала с
помощью лазера. Метод испарения лазером позволяет генерировать пары высокой

Страницы