ВУЗ:
Рубрика:
8
ЗАДАНИЕ № 1
ФИЗИЧЕСКИЕ ПРИНЦИПЫ РАБОТЫ СВЕТОИЗЛУЧАЮЩЕГО ДИОДА
Необходимо предложить технологические приемы создания и обосновать физиче-
ские принципы работы светоизлучающего диода (СИД) на гомо-
р -п
переходе, излу-
чающего зеленый свет (
λ
=555 нм ) и предназначенного для использования в качестве
индикатора .
1.1. Проанализируйте содержание задания с целью выбора исходных материалов
для изготовления тела СИД, если известно, что в технологическом процессе твер -
дые растворы полупроводниковых веществ не используются.
1.2. К какому типу полупроводников (прямозонные или нет) относится выбран-
ный Вами материал, изобразите энергетическую диаграмму излучательных пере-
ходов.
1.3. С какой целью в данный полупроводник вводится нейтральная примесь азота ?
1.4. Опишите физические принципы работы СИД и изобразите энергетические
диаграммы в равновесном и рабочем режимах.
1.5. Перечислите основные технологические процессы создания СИД.э
1.6. Предложите оптимальную конструкцию СИД с целью достижения максималь-
ного значения внешнего квантового выхода .
1.7. Почему полупроводниковый СИД имеет ширину эмиссионной линии порядка
сотен ангстрем , в то время как полупроводниковый лазер имеет ширину линии
около 1 Ǻ ?
Литература
1. Мартынов В .Н ., Кольцов Г.И . Полупроводниковая оптоэлектроника . - М .: МИ-
СИС, 1999. – 399 с.
2. Берг Г . Дин П . Светодиоды . - М .: Мир , 1979.-686 с.
3. Носов Ю .Р. Оптоэлектроника .- М .: Радио и связь, 1989. – 360 с.
8 ЗАДАНИЕ № 1 ФИЗИЧЕСКИЕ ПРИНЦИПЫ РАБОТЫ СВЕТОИЗЛУЧАЮЩЕГО ДИОДА Необходимо предложить технологические приемы создания и обосновать физиче- ские принципы работы светоизлучающего диода (СИД) на гомо-р-п переходе, излу- чающего зеленый свет (λ=555 нм) и предназначенного для использования в качестве индикатора. 1.1. Проанализируйте содержание задания с целью выбора исходных материалов для изготовления тела СИД, если известно, что в технологическом процессе твер- дые растворы полупроводниковых веществ не используются. 1.2. К какому типу полупроводников (прямозонные или нет) относится выбран- ный Вами материал, изобразите энергетическую диаграмму излучательных пере- ходов. 1.3. С какой целью в данный полупроводник вводится нейтральная примесь азота? 1.4. Опишите физические принципы работы СИД и изобразите энергетические диаграммы в равновесном и рабочем режимах. 1.5. Перечислите основные технологические процессы создания СИД.э 1.6. Предложите оптимальную конструкцию СИД с целью достижения максималь- ного значения внешнего квантового выхода. 1.7. Почему полупроводниковый СИД имеет ширину эмиссионной линии порядка сотен ангстрем, в то время как полупроводниковый лазер имеет ширину линии около 1 Ǻ? Литература 1. Мартынов В.Н., Кольцов Г.И. Полупроводниковая оптоэлектроника. - М.: МИ- СИС, 1999. – 399 с. 2. Берг Г. Дин П. Светодиоды. - М.: Мир, 1979.-686 с. 3. Носов Ю.Р. Оптоэлектроника.- М.: Радио и связь, 1989. – 360 с.
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 6
- 7
- 8
- 9
- 10
- …
- следующая ›
- последняя »