Синхротронное излучение в спектроскопии. Михайлин В.В. - 119 стр.

UptoLike

Составители: 

- 118 -
где R — количество частиц, переходящих в 1 см
3
за 1 с с
основного уровня на верхний рабочий; ∆λширина ли-
нии люминесценции; r
1
, r
2
коэффициенты отражения
зеркал резонатора; σ
0
поглощение на длине волны гене-
рации; п показатель преломления; lдлина кристалла.
При σ = 0,005 см
-1
R = 1,5.10
22
с
-1
·см
-3
. Современные источ-
ники СИ обеспечивают значения R3×10
22
c
-1
·см
-3
.
На основе полученных экспериментальных данных бы-
ли сделаны оценки возможности получения генерации для
исследованных кристаллов с накачкой СИ существующих
накопителей [54] и показано, что для ряда кристаллов
(трифторидов лантана (рис. 2.23), окислов, CdS, щелочно-
галоидных) достигаемые сейчас на накопителях плотности
накачки уже достаточны, для других требуется некоторое
повышение интенсивности СИ.
Рис. 2.23. Схема накачки и переходов в кристалле LaF
3
— Nd
где R — количество частиц, переходящих в 1 см3 за 1 с с
основного уровня на верхний рабочий; ∆λ — ширина ли-
нии люминесценции; r1, r2 — коэффициенты отражения
зеркал резонатора; σ0 — поглощение на длине волны гене-
рации; п — показатель преломления; l — длина кристалла.
При σ = 0,005 см-1 R = 1,5.1022 с-1·см-3. Современные источ-
ники СИ обеспечивают значения R≈3×1022 c-1·см-3.
   На основе полученных экспериментальных данных бы-
ли сделаны оценки возможности получения генерации для
исследованных кристаллов с накачкой СИ существующих
накопителей [54] и показано, что для ряда кристаллов
(трифторидов лантана (рис. 2.23), окислов, CdS, щелочно-
галоидных) достигаемые сейчас на накопителях плотности
накачки уже достаточны, для других требуется некоторое
повышение интенсивности СИ.




Рис. 2.23. Схема накачки и переходов в кристалле LaF3 — Nd



                              - 118 -