ВУЗ:
Составители:
- 118 -
где R — количество частиц, переходящих в 1 см
3
за 1 с с
основного уровня на верхний рабочий; ∆λ — ширина ли-
нии люминесценции; r
1
, r
2
— коэффициенты отражения
зеркал резонатора; σ
0
— поглощение на длине волны гене-
рации; п — показатель преломления; l — длина кристалла.
При σ = 0,005 см
-1
R = 1,5.10
22
с
-1
·см
-3
. Современные источ-
ники СИ обеспечивают значения R≈3×10
22
c
-1
·см
-3
.
На основе полученных экспериментальных данных бы-
ли сделаны оценки возможности получения генерации для
исследованных кристаллов с накачкой СИ существующих
накопителей [54] и показано, что для ряда кристаллов
(трифторидов лантана (рис. 2.23), окислов, CdS, щелочно-
галоидных) достигаемые сейчас на накопителях плотности
накачки уже достаточны, для других требуется некоторое
повышение интенсивности СИ.
Рис. 2.23. Схема накачки и переходов в кристалле LaF
3
— Nd
где R — количество частиц, переходящих в 1 см3 за 1 с с основного уровня на верхний рабочий; ∆λ — ширина ли- нии люминесценции; r1, r2 — коэффициенты отражения зеркал резонатора; σ0 — поглощение на длине волны гене- рации; п — показатель преломления; l — длина кристалла. При σ = 0,005 см-1 R = 1,5.1022 с-1·см-3. Современные источ- ники СИ обеспечивают значения R≈3×1022 c-1·см-3. На основе полученных экспериментальных данных бы- ли сделаны оценки возможности получения генерации для исследованных кристаллов с накачкой СИ существующих накопителей [54] и показано, что для ряда кристаллов (трифторидов лантана (рис. 2.23), окислов, CdS, щелочно- галоидных) достигаемые сейчас на накопителях плотности накачки уже достаточны, для других требуется некоторое повышение интенсивности СИ. Рис. 2.23. Схема накачки и переходов в кристалле LaF3 — Nd - 118 -
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 117
- 118
- 119
- 120
- 121
- …
- следующая ›
- последняя »