ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
24
процессами. Этот процесс называют инжекцией. Инжекция
носителей через барьер приводит к увеличению концентрации
неосновных носителей как в p-, так и в n-области. Одновременно
через контакты, к которым приложено внешнее напряжение, в эти
области полупроводника поступает такое же количество основных
(для каждой области) носителей. Они компенсируют излишний заряд,
который вносится в каждую область инжектированными через p-n-
переход неосновными носителями. Таким образом, приложение
внешнего напряжения вызывает прохождение через полупроводник и,
в частности, через p-n-переход тока инжекции
inj
I
.
Действие полупроводниковых излучающих кристаллов
представлено схемами, приведенными на рис. 3.2. Если к
полупроводниковому p-n-переходу не приложено никакого внешнего
напряжения (“нулевое смещение”) и обе его части находятся в
состоянии термодинамического равновесия друг с другом (схема а),
то значение энергии уровня Ферми (химического потенциала) на всем
протяжении кристалла одинаково. На схеме а) этому соответствует
один и тот же (условный) верхний уровень заполнения состояний
электронами в p- и n-областях.
Схема б) иллюстрирует изменение взаимного расположения
энергетических зон и их заполнения электронами при прямом
смещении, когда к активному кристаллу приложено внешнее
напряжение
.
np
V
Величина этого напряжения приблизительно равна
энергетической ширине запрещенной зоны кристалла, т.е.:
np
V
,
e
E
g
(3.4)
где e - абсолютная величина заряда электрона.
Рис.3.2. Зонные схемы,
поясняющие возникновение
активной области в
полупроводнике с p-n-
переходом. Заштрихованы
области энергетических зон,
заполненные электронами.
а) Внешнее напряжение равно
нулю. б) Внешнее напряжение
np
V
/ eE
g
(прямое
смещение).
24 процессами. Этот процесс называют инжекцией. Инжекция носителей через барьер приводит к увеличению концентрации неосновных носителей как в p-, так и в n-области. Одновременно через контакты, к которым приложено внешнее напряжение, в эти области полупроводника поступает такое же количество основных (для каждой области) носителей. Они компенсируют излишний заряд, который вносится в каждую область инжектированными через p-n- переход неосновными носителями. Таким образом, приложение внешнего напряжения вызывает прохождение через полупроводник и, в частности, через p-n-переход тока инжекции I inj . Действие полупроводниковых излучающих кристаллов представлено схемами, приведенными на рис. 3.2. Если к полупроводниковому p-n-переходу не приложено никакого внешнего напряжения (“нулевое смещение”) и обе его части находятся в состоянии термодинамического равновесия друг с другом (схема а), то значение энергии уровня Ферми (химического потенциала) на всем протяжении кристалла одинаково. На схеме а) этому соответствует один и тот же (условный) верхний уровень заполнения состояний электронами в p- и n-областях. Схема б) иллюстрирует изменение взаимного расположения энергетических зон и их заполнения электронами при прямом смещении, когда к активному кристаллу приложено внешнее напряжение Vnp . Величина этого напряжения приблизительно равна энергетической ширине запрещенной зоны кристалла, т.е.: Eg Vnp , (3.4) e где e - абсолютная величина заряда электрона. Рис.3.2. Зонные схемы, поясняющие возникновение активной области в полупроводнике с p-n- переходом. Заштрихованы области энергетических зон, заполненные электронами. а) Внешнее напряжение равно нулю. б) Внешнее напряжение Vnp E g / e (прямое смещение).
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 22
- 23
- 24
- 25
- 26
- …
- следующая ›
- последняя »