Взаимодействие космических аппаратов с окружающей плазмой. Новиков Л.С. - 47 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

МГУ | Москва

Составители: 

Рубрика: 

47
значительное влияние на протекание различных эмиссионных процес-
сов. Это влияние неоднозначно, оно зависит от рода материала мишени,
состава и структуры адсорбционного слоя, вида эмиссии и т.д. Чаще
всего появление адсорбционного слоя на поверхности металла приводит
к увеличению выхода вторичных электронов. Это характерно для вто-
ричной электронной и фотоэлектронной
эмиссии.
Наличие на поверхности КА слоя адсорбированного газа может при
некоторых условиях движения в ионосфере значительно интенсифици-
ровать процессы поверхностной ионизации частиц набегающего потока.
При соударении с поверхностью атомов кислорода, которые обладают
высоким сродством к электрону, часть атомов отражается в виде отри-
цательных ионов, что непосредственно влияет на баланс токов на
по-
верхности КА.
В ионосфере в условиях воздействия на КА набегающего газового
потока свойства материалов внешней оболочки в значительной степени
определяются плазмохимическими процессами, протекающими на по-
верхности. Под действием набегающего плазменного потока происхо-
дит распыление материалов, приводящее к образованию на поверхности
характерного микрорельефа и к изменению свойств материалов, в том
числе их вторично-эмиссионных характеристик.
Ранее было показано (см. рис. 1), что в интервале высот от 200 до
700 - 900 км основным ионным компонентом ионосферы является ион
О
+
. В составе нейтральной атмосферы Земли на этих высотах также
преобладают атомы кислорода, причем их концентрация на несколько
порядков выше концентрации ионов О
+
, поскольку, как уже подчерки-
валось, ионосферная плазма является слабо ионизованной. Атомарный
кислород обладает высокой химической активностью, которая усилена
кинетической энергией сталкивающихся с поверхностью атомов (~5
эВ), обусловленной орбитальной скоростью КА. Поэтому на низких
околоземных орбитах наибольшее влияние на состояние поверхности
КА оказывает набегающий поток нейтральных атомов кислорода. 
значительное влияние на протекание различных эмиссионных процес-
сов. Это влияние неоднозначно, оно зависит от рода материала мишени,
состава и структуры адсорбционного слоя, вида эмиссии и т.д. Чаще
всего появление адсорбционного слоя на поверхности металла приводит
к увеличению выхода вторичных электронов. Это характерно для вто-
ричной электронной и фотоэлектронной эмиссии.
   Наличие на поверхности КА слоя адсорбированного газа может при
некоторых условиях движения в ионосфере значительно интенсифици-
ровать процессы поверхностной ионизации частиц набегающего потока.
При соударении с поверхностью атомов кислорода, которые обладают
высоким сродством к электрону, часть атомов отражается в виде отри-
цательных ионов, что непосредственно влияет на баланс токов на по-
верхности КА.
   В ионосфере в условиях воздействия на КА набегающего газового
потока свойства материалов внешней оболочки в значительной степени
определяются плазмохимическими процессами, протекающими на по-
верхности. Под действием набегающего плазменного потока происхо-
дит распыление материалов, приводящее к образованию на поверхности
характерного микрорельефа и к изменению свойств материалов, в том
числе их вторично-эмиссионных характеристик.
   Ранее было показано (см. рис. 1), что в интервале высот от 200 до
700 - 900 км основным ионным компонентом ионосферы является ион
О+. В составе нейтральной атмосферы Земли на этих высотах также
преобладают атомы кислорода, причем их концентрация на несколько
порядков выше концентрации ионов О+, поскольку, как уже подчерки-
валось, ионосферная плазма является слабо ионизованной. Атомарный
кислород обладает высокой химической активностью, которая усилена
кинетической энергией сталкивающихся с поверхностью атомов (~5
эВ), обусловленной орбитальной скоростью КА. Поэтому на низких
околоземных орбитах наибольшее влияние на состояние поверхности
КА оказывает набегающий поток нейтральных атомов кислорода.


                                  47

Страницы