Материаловедение поверхности и тонких пленок. Пичугин В.Ф. - 5 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

Введение

Характерной особенностью современного этапа развития

технологии является быстрое внедрение новейших достижений науки.

В основе любого технологического процесса лежит

определенное физическое, химическое или электрохимическое

воздействие на материал с целью управляемого изменения его

свойств. Такой взгляд на технологические процессы позволяет

выделить их базовые физико-технологические черты и увидеть общие

физические закономерности, управляющие этими процессами.

Одним из общих, базовых подходов к описанию физических

явлений является термодинамический подход, который дает

результаты, применимые к разнообразным системам.

Задача первой главы – рассмотреть фундаментальные вопросы

термодинамики, необходимые для понимания физических

закономерностей, лежащих в основе разнообразных методов и

процессов, используемых в современной технологии электронного

приборостроения. Во второй главе рассматриваются основные

закономерности, описывающие изменения фазового состояния

вещества, а также основные положения химической термодинамики,

имеющие непосредственное отношение к технологическим

проблемам. Третья и четвертая главы посвящены поведению

точечных и линейных дефектов, а также рассматриваются

кинетические и диффузионные процессы. Пятая глава посвящена

поверхностным явлениям. В ней изложены основные положения

термодинамики поверхностных явлений и межфазных

взаимодействий, имеющие отношение к технологическим процессам,

включая процессы зародышеобразования и роста пленки на реальных

поверхностях.