ВУЗ:
Составители:
139
42. Технология ионного легирования /Под.ред. С.Намба; - М.:
Советское радио, 1974. -176 с.
43. Модифицирование и легирование поверхности лазерными,
ионными и электронными пучками / Под. ред. Поута Дж.М. и
др. М.: Машиностроение, 1987, 424 с.
44. Модифицирование и легирование поверхности лазерными,
ионными и электронными пучками / Под. ред. Поута Дж.М. и
др. М.: Машиностроение, 1987, 424 с.
45. К. Оура, В.Г. Лифшиц, А.А. Саранин, А.В. Зотов, М. Катаяма,
Введение в физику поверхности, М.: Наука, 2006. с. 490
46. Pedersen M., Österlund L., Mortersen J., et.al. Diffusion of N
adatoms on the Fe(100) surface // Phys.Rev.Lett. 2000.V.84.№12,
p.4898-4901.
47. Gomer R. Diffusion of adsorbates on metal surfaces // Rep. Progr.
Phys.1990. V.53., p. 917-1002.
48. Lauhon L., Ho W., Direct observation of the quantom tunneling of
single hydrogen atoms with a scanning tunneling microscope // Ibid.
2000. V. 85, № 21. p. 4566-4569.
49. Mayne A., Rose F., Bolis C., et.al. An scanning tunneling microscopy
study of the diffusion of a single or a pair of atomicc vacancies // Surf.
Sci. 2001. V, 486, № 3. p. 226-238.
50. Van Gastel R., Somfai E., Van Albada S., Nothing moves a surface:
Vacancy madiated surface diffusion // Phys. Rev. Lett. 2001.V.86.
№20, p.4588-4591.
51. Kyuno K., Ehrlich G. Diffusion and dissociation of platinum clusters
on Pt(111) // Surf. Sci. 2001. V, 486, № 3. p. 226-238.
52. Park R.L., Madden H.H. Annealing changes on the (100) surface of
palladium and their effect on CO adsorption // Ibid. 1968. V. 30. N 2. p.
188-202.
53. Wood E.A. Vocabulary of surface crystallography // J, Appl. Phys.
1964. V. 35. N 4. p. 1306-1312.
54. С.А. Кукушкин, А.В. Осипов, Процессы конденсации тонких
пленок, УФН, т. 168, №10, 1998, с. 1083-1116.
55. Sivaram S., Chemical Vapor Deposition - Thermal and Plasma
Deposition of Electronic Materials. Van Nostrand Reinhold, New
York, 1995.
56. Pierson H. O., Handbook of Chemical Vapor Deposition,
Principles, Technology and Applications. Noyes, Park Ridge, N.I,
1992.
57. Sherman A., Chemical Vapor Deposition for Microelectronics.
Noyes, Park Ridge, NJ, 1987.
