Материаловедение поверхности и тонких пленок. Пичугин В.Ф. - 75 стр.

UptoLike

Составители: 

75
4
2
a
D
, (4.34)
где постоянная решетки a = 2,55 Å. Как видно из данных рисунка
4.5, при температурах выше 60 К, когда атомы водорода имеют
достаточно энергии, чтобы преодолеть диффузионный барьер,
преобладает классическая прыжковая диффузия, которая описывается
зависимостью Аррениуса с ν = 10
12,90,3
и E
diff
= (0,197 ± 0,04) эВ. При
температурах ниже 60 К миграция осуществляется по механизму
квантового туннелирования со скоростью, практически не зависящей от
температуры.
Вакансионный механизм. Миграция атомов внутри заполненного
атомного поверхностного слоя о есть в случае когда подавляющее
большинство атомных посадочных мест занято) часто управляется
образованием и миграцией вакансий, другими словами, протекает по
вакансионному механизму. СТМ метод в редких случаях позволяет
наблюдать движение вакансий непосредственно [49].
Гетеродиффузия по вакансионному механизму наблюдалась
для атомов In и Pd, встроенных в верхний атомный слой
поверхности Cu(100) [50]. Было определено, что скорость
перескоков атомов определяется концентрацией естественных
вакансий и их подвижностью. Согласно оценке [50] при комнатной
температуре концентрация вакансий на поверхности Cu(100) ~10
-10
,
а частота их перескоков ~10
8
Гц
Поверхностная диффузия кластеров.
В ходе миграции
отдельные атомы могут
сблизиться друг с другом и
при наличии взаимного
притяжения образовать
стабильный кластер. В
зависимости от многих
обстоятельств кластер может
содержать от двух атомов
(димер) до сотен атомов
(островок). Динамика класте-
ров включает два аспекта:
перераспределение атомов
внутри кластера и диффузию
кластеров. Поверхностная
диффузия кластеров
характеризуется
перемещением центра масс
кластера. В этом отношении миграцию кластеров можно рассматривать
так же, как и миграцию одиночных адатомов. Многочисленные
Рис. 4.6. Энергия активации
диффузии кластеров Pt на Pt(111)
как функция размера кластера