Проектирование специализированных СБИС. Рындин Е.А. - 67 стр.

UptoLike

Составители: 

69
Рассмотрим кристаллическую решетку, состоящую из атомных остовов
без валентных электронов. Если поместить в эту решетку два отдельных ва-
лентных электрона, то, обладая отрицательным зарядом, каждый электрон
будет создавать локальную деформацию кристаллической решетки положи-
тельно заряженных атомных остовов. Таким образом, вокруг отрицательного
точечного заряда электрона будет создан компенсирующий положительный
заряд в некотором достаточно большом по сравнению с размерами электрона
объеме. То есть каждый электрон будет находиться в потенциальной яме,
глубина которой определяется его зарядом. Естественно, что два электрона
вместе, обладая в два раза большим зарядом, создадут более глубокую потен-
циальную яму, то есть займут более выгодное с энергетической точки зрения
положение.
Именно этим объяснятся взаимодействие двух валентных электронов в
металле. Если расстояние между ними достаточно большое, взаимодействие
практически полностью экранируется периодическим полем кристаллической
решетки. Но при сокращении расстояния до соприкосновения так называемых
областей захвата, то есть объемов определенного радиуса, в пределах которых
силы взаимодействия превышают барьер кристаллической решетки, каждый
электрон, отталкиваясь от второго электрона, в то же время притягивается к
области положительного объемного заряда, созданного вторым электроном.
К чему это приводит в конечном итоге, можно приближенно продемон-
стрировать, если представить себе натянутую гибкую мембрану и два поме-
щенных на нее шарика, как показано на рис. 46.
Каждый шарик находится в потенциальной яме, глубина которой про-
порциональна его весу. Если шарики приблизить настолько, что области де-
формации мембраны вокруг шариков будут перекрываться, высота барьера
между ними значительно уменьшится и они скатятся друг к другу под дейст-
вием силы тяжести и займут более выгодное энергетическое положение в
более глубокой потенциальной яме. Конечно, в данном случае следует сделать
поправку на то, что шарики не испытывают взаимного электростатического
отталкивания. Но сути дела это не меняет.
Рис. 45 Температурная зависимость
сопротивления ртути