Технология и автоматизация производства электронной аппаратуры. Скубилин М.Д - 321 стр.

UptoLike

321
Бескорпусная герметизация производится нанесением различными методами
тонких и сверхтонких покрытий из органических и неорганических материалов.
Пленки из неорганических материалов, обладая малой толщиной, значительной
пористостью и низкой механической прочностью, выполняют в основном за-
щитно-пассивные функции, т. е. снижают химическую активность с окружаю-
щей средой. Высокая чистота неоргаников и их способность по
стабилизации
параметров деталей позволяют их использовать в качестве промежуточных
слоев перед нанесением дополнительных полимерных покрытий или перед
герметизацией в корпусах.
Получение пленок из неорганических материалов методами испарения в ва-
кууме обеспечивает их химическую чистоту, исключает термическое воздейст-
вие на изделие и позволяет применять материалы с высокой нагревостойко-
стью.
Более производительны
и технологичны термические методы покрытий, но
они приемлемы для изделий допускающих высокотемпературный нагрев. Так,
слои окисла алюминия получают, например, пиролизом алюминиевых веществ
при T=+350÷+500 ˚C.
Пленки
2
SiO создают окислением
Si
при T=+850÷+1200 ˚C в атмосфере су-
хого кислорода или в парах воды при T=+500÷+900 ˚C и высоком давлении.
Получение
2
SiO в сухом
2
O отличается низкой скоростью роста
2
SiO , но при
этом пленки
2
SiO обладают меньшей пористостью и лучшими электрическими
характеристиками. На поверхностях, не содержащих
Si
, пленки
2
SiO получают
в результате пиролиза алгосилоксанов при T=+700÷+90 ˚C, а также пиролиза
галогенов кремния при T=+1000÷+1200 ˚C.
Лучшими защитными свойствами (по сравнению с
2
SiO ) обладают пленки
нитрида кремния (
34
Si N ). Они замедляют диффузию различных загрязнителей
(Al, Cu, H
2
O, Na, Li, K и др.) из окружающей среды к поверхности изделия.
Основной метод получения пленок
34
Si N азотирование силана аммиаком
при T=+650÷+950 ˚C. Особенно эффективно двухслойное покрытие
234
SiO Si N
+
.
Стеклянные пленки
10hm
μ
позволяют не только пассировать поверхности, но