Вакуумная и плазменная электроника. Светцов В.И. - 98 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ИГХТУ | Иваново

Составители: 

Рубрика: 

98
C
AB Pb P
i
2
0
2 2
1 1
1
=
+
⋅ ⋅ ⋅ ⋅ ⋅ ⋅ +
ln( / )
( )
γ
ε γ
(5.17)
где А и В коэффициенты уравнения Таунсенда.
C
2
j
k
C
1
U
k
Рис. 5.4. Зависимость U
k
от j
k
Переход от зависимости j
к
=f(U
к
) к вольт-амперной характеристике катод-
ной области путём умножения плотности тока на площадь катода возможен
лишь для правой кривой, которая соответствует режиму полного покрытия ка-
тода свечением. При некотором значении тока на катоде устанавливается плот-
ность тока j
кn
и катодное падение потенциала снижается до минимальной вели-
чины ∆U
кn
. Дальнейшее уменьшение катодного тока ведёт не к уменьшению
плотности тока, а к уменьшению площади катода, покрытой свечением. При
этом плотность тока и катодное падение потенциала остаются неизменными.
Действительная ВАХ разряда показана на рис.5.5. 
                   ln(1 + 1 / γ )
    C2 =                                                              (5.17)
          ε 0 ⋅ A ⋅ B ⋅ P ⋅ b i ⋅ P ⋅ (1 + γ )
                   2            2

где А и В коэффициенты уравнения Таунсенда.



           C1 Uk




                                                             C 2 jk


                          Рис. 5.4. Зависимость Uk от jk

    Переход от зависимости jк=f(Uк) к вольт-амперной характеристике катод-
ной области путём умножения плотности тока на площадь катода возможен
лишь для правой кривой, которая соответствует режиму полного покрытия ка-
тода свечением. При некотором значении тока на катоде устанавливается плот-
ность тока jкn и катодное падение потенциала снижается до минимальной вели-
чины ∆Uкn. Дальнейшее уменьшение катодного тока ведёт не к уменьшению
плотности тока, а к уменьшению площади катода, покрытой свечением. При
этом плотность тока и катодное падение потенциала остаются неизменными.
Действительная ВАХ разряда показана на рис.5.5.




                                        98

Страницы