ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
сильно зависит от напряженности электрического поля, свойств диэлек-
трика и потенциального барьера на границе электрод-диэлектрик.
Стадия развития разряда – это отрезок времени, в течение которого
растут проводящие каналы и перекрывают весь промежуток. Длитель-
ность стадии формирования канала разряда
t
ф
зависит от соотношения
максимальной локальной
Е
max
и средней Е
ср
=U/d напряженности электри-
ческого поля, где
U – воздействующее напряжение, d – длина межэлек-
тродного промежутка. В резконеоднородных полях, когда коэффициент
неоднородности большой
k=Е
max
/Е
ср
>10
2
, а коэффициент перенапряжения
E
max
/E
пр.ст
>1 (E
пр.ст
– электрическая прочность промежутка на статическом
напряжении), длительность начальной стадии
t
ст
мала, и время до пробоя
определяется второй стадией.
Канальная стадия определяется отрезком времени, в течение кото-
рого в промежутке устанавливается дуга, завершающая пробой.
Известно, что электрический пробой имеет случайный (стохастиче-
ский) характер, и
t
ст
и t
ф
являются случайными величинами. Структура ка-
налов разряда, их расположение в пространстве стохастичны и не повто-
ряются от опыта к опыту. Обусловлено это неоднородностями строения
диэлектрика и неустойчивостями в развивающихся плазменных каналах.
Адекватным языком для описания стохастических структур, подобных
развивающемуся каналу разряда, является язык физики фракталов.
В работе приведены основные понятия
фрактальной геометрии,
фрактальная модель пробоя и ее применение для описания развития разря-
да – второй стадии пробоя. Основные допущения модели: процессы, ответ-
ственные за развитие разряда, определяются только локальной напряжен-
ностью поля вблизи разрядных каналов. Компьютерные исследования
роста каналов разряда позволяет получить наглядное представление о раз-
рядных процессах в диэлектриках.
1.1. Развитие разряда в диэлектриках
Всем разрядным явлениям и пробою конденсированных (то есть дос-
таточно плотных) диэлектриков в целом присущ эффект полярности: ини-
циирование развития разряда происходит легче на аноде (в однородном
поле разряд развивается с анода), скорость развития анодных каналов вы-
ше, а электрическая прочность диэлектриков в промежутках положитель-
ное острие - плоскость ниже, чем в
геометрии острийный катод - плоскость
при прочих равных условиях.
Развитие разрядных каналов в резконеоднородном поле всегда начи-
нается у электрода с малым радиусом кривизны. Длительность первой ста-
дии пробоя уменьшается с увеличением прикладываемого напряжения
U,
коэффициентов перенапряжения
E
max
/E
пр.ст
и неоднородности k=E
max
/E
ср
.
Длительность времени развития разряда и форма разрядных структур так-
72
сильно зависит от напряженности электрического поля, свойств диэлек- трика и потенциального барьера на границе электрод-диэлектрик. Стадия развития разряда – это отрезок времени, в течение которого растут проводящие каналы и перекрывают весь промежуток. Длитель- ность стадии формирования канала разряда tф зависит от соотношения максимальной локальной Еmax и средней Еср=U/d напряженности электри- ческого поля, где U – воздействующее напряжение, d – длина межэлек- тродного промежутка. В резконеоднородных полях, когда коэффициент неоднородности большой k=Еmax/Еср>102, а коэффициент перенапряжения Emax/Eпр.ст>1 (Eпр.ст – электрическая прочность промежутка на статическом напряжении), длительность начальной стадии tст мала, и время до пробоя определяется второй стадией. Канальная стадия определяется отрезком времени, в течение кото- рого в промежутке устанавливается дуга, завершающая пробой. Известно, что электрический пробой имеет случайный (стохастиче- ский) характер, и tст и tф являются случайными величинами. Структура ка- налов разряда, их расположение в пространстве стохастичны и не повто- ряются от опыта к опыту. Обусловлено это неоднородностями строения диэлектрика и неустойчивостями в развивающихся плазменных каналах. Адекватным языком для описания стохастических структур, подобных развивающемуся каналу разряда, является язык физики фракталов. В работе приведены основные понятия фрактальной геометрии, фрактальная модель пробоя и ее применение для описания развития разря- да – второй стадии пробоя. Основные допущения модели: процессы, ответ- ственные за развитие разряда, определяются только локальной напряжен- ностью поля вблизи разрядных каналов. Компьютерные исследования роста каналов разряда позволяет получить наглядное представление о раз- рядных процессах в диэлектриках. 1.1. Развитие разряда в диэлектриках Всем разрядным явлениям и пробою конденсированных (то есть дос- таточно плотных) диэлектриков в целом присущ эффект полярности: ини- циирование развития разряда происходит легче на аноде (в однородном поле разряд развивается с анода), скорость развития анодных каналов вы- ше, а электрическая прочность диэлектриков в промежутках положитель- ное острие - плоскость ниже, чем в геометрии острийный катод - плоскость при прочих равных условиях. Развитие разрядных каналов в резконеоднородном поле всегда начи- нается у электрода с малым радиусом кривизны. Длительность первой ста- дии пробоя уменьшается с увеличением прикладываемого напряжения U, коэффициентов перенапряжения Emax/Eпр.ст и неоднородности k=Emax/Eср. Длительность времени развития разряда и форма разрядных структур так- 72
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 70
- 71
- 72
- 73
- 74
- …
- следующая ›
- последняя »