Космическое материаловедение. Акишин А.И. - 81 стр.

UptoLike

Составители: 

81
Методы оптической спектроскопии позволяют проводить такие измере-
ния. Спектры приращения коэффициента нестационарного наведенного
поглощения, α, были получены для стекла кроновой группы К8 и его
радиационно-стойкого аналога К108 для временного интервала 10
-8
– 1 с
после окончания облучения импульсом высокоэнергичных электронов
длительностью 20нс (рис.2) [7]. Стекла К8 и К108 имеют схожий хими-
ческий состав, за исключением наличия в последнем ионов церия.
С понижением температуры оптического материала концентрация
радиационных центров окраски заметно возрастает за счет заполнения
электронами и дырками неглубоких энергетических ловушек в запре-
щенной зоне диэлектрика. Неглубокие ловушки частично опустошаются
при повышении температуры до комнатной и выше. При нагреве облу-
ченных стекол наблюдается их обесцвечивание, т.е. уменьшение инду-
цированной оптической плотности [8-10]. Так, например, термоотжиг
стекла марки К-8 проводился в режиме изотермического отжига при
температурах 343К, 353К, 383К, 413К, 443К (рис.3).
Рис.3. Зависимость изменения спектральной оптической плотности D
(=0,5 мкм) оптического стекла марки К-8, облученного протонами с
энергией 6,3 МэВ, флюенсом 10
13
см
-2
, Д~10
4
Гр от логарифма времени
отжига в изотермическом режиме : 1 – T=343 K; 2 – T=353 K; 3 – T=383
K; 4 – T=393 K; 5 – T=413 K; 6 – T=443 К
Зависимости D
при изотермическом отжиге центров окраски при
комнатной температуре, построенные как функция логарифма времени
отжига, линеаризуется на довольно большом интервале изменения ло-
гарифма времени (рис.3). Это обстоятельство позволяет предположить,
что при отжиге центров окраски в исследуемых стеклах имеет место
Методы оптической спектроскопии позволяют проводить такие измере-
ния. Спектры приращения коэффициента нестационарного наведенного
поглощения, ∆ α, были получены для стекла кроновой группы К8 и его
радиационно-стойкого аналога К108 для временного интервала 10-8 – 1 с
после окончания облучения импульсом высокоэнергичных электронов
длительностью 20нс (рис.2) [7]. Стекла К8 и К108 имеют схожий хими-
ческий состав, за исключением наличия в последнем ионов церия.
   С понижением температуры оптического материала концентрация
радиационных центров окраски заметно возрастает за счет заполнения
электронами и дырками неглубоких энергетических ловушек в запре-
щенной зоне диэлектрика. Неглубокие ловушки частично опустошаются
при повышении температуры до комнатной и выше. При нагреве облу-
ченных стекол наблюдается их обесцвечивание, т.е. уменьшение инду-
цированной оптической плотности [8-10]. Так, например, термоотжиг
стекла марки К-8 проводился в режиме изотермического отжига при
температурах 343К, 353К, 383К, 413К, 443К (рис.3).




Рис.3. Зависимость изменения спектральной оптической плотности D
(=0,5 мкм) оптического стекла марки К-8, облученного протонами с
энергией 6,3 МэВ, флюенсом 1013 см-2, Д~104 Гр от логарифма времени
отжига в изотермическом режиме : 1 – T=343 K; 2 – T=353 K; 3 – T=383
K; 4 – T=393 K; 5 – T=413 K; 6 – T=443 К

   Зависимости D при изотермическом отжиге центров окраски при
комнатной температуре, построенные как функция логарифма времени
отжига, линеаризуется на довольно большом интервале изменения ло-
гарифма времени (рис.3). Это обстоятельство позволяет предположить,
что при отжиге центров окраски в исследуемых стеклах имеет место
                                 81