Основы электротехнологий. Анненков Ю.М - 95 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ТПУ | Томск

Составители: 

Рубрика: 

каф. ЭИКТ ЭЛТИ ТПУ
95
В случае точечного испарителя и плоской поверхности подложки,
расположенной под каким-то углом Q к нормали пучка атомов испаряе-
мого металла, толщина пленки, образованной на площадке dS
2
в едини-
цу времени будет равна
2
r
coscosm
Θ
ϕ
πγ
∆
⋅
⋅= , (7)
где γ - плотность конденсируемого материала, г/см
3
;
m - количество атомов испаренного металла, падающих на по-
верхность подложки в единицу времени, г/сек;
r - расстояние до подложки от испарителя, см;
Θ - угол, образованный поверхностью подложки к нормали по-
тока атомов испаряемого металла;
ϕ - угол, образованный между осью распространяемого потока
атомов и нормалью испарителя S.
Соотношение между количеством атомов, адсорбированных едини
-
цей площади поверхности подложки и давлением паров металла опре-
деляется уравнением Ленгмюра
b
P
ab
1
q
P
+=
, (8)
где
,
к
a
,
)MRT2(
b,
N
N
a
0
===
σ
π
σ
N
0
- число элементарных пространств на единице площади кон-
денсатора;
N - число Авогадро, равное 6,022
.
10
23
;
а - число молекул, сконденсированных на подложке;
к - число молекул, испарившихся с вполне покрытой поверхности
конденсатора;
М - молекулярный вес;
R - газовая постоянная;
q – заряд электрона;
Т - температура подложки, К.
Природа адсорбции, т.е. сил, удерживающих молекулы газа на по-
верхности, достаточно сложна и многообразна. Это целый комплекс яв-
лений, связанных с фазовыми превращениями, массотеплопереносом,
формированием структуры и т.д. Согласно Ленгмюру адсорбция может
рассматриваться как прикрепление внешних молекул или атомов сво-
бодными связями, в частности, силами
сродства к атомам, составляю-
щим поверхностный слой подложки. При этом адсорбируемые атомы и
молекулы стремятся к такому расположению в пространстве, которое

Страницы