Сварочные процессы в электронном машиностроении. Бадьянов Б.Н - 25 стр.

UptoLike

Рубрика: 

25
осуществляется проводниками 5, герметизация корпусапайкой крышки 4 с
основанием корпуса 3. Функцию припоя выполняет покрытие, нанесенное на
основание корпуса.
В конструкции полупроводниковой микросхемы в металлокерамическом
корпусе прямоугольной формы с выводами, расположенными параллельно
монтажной плоскости корпуса (рис. 19, б), кристалл 6 напаивается на
металлизированное керамическое основание корпуса 3; соединение контактных
площадок кристалла с контактными площадками внешних выводов 1
осуществляется с помощью проводника 5, а герметизация корпусапайкой
крышки 4 и металлизированного слоя керамического изолятора.
Тонкопленочные ИМС микросхемы, элементы которых выполнены в
виде пленок, нанесенных на поверхность диэлектрического материала.
Элементы тонкопленочных микросхем наносятся преимущественно методами
вакуумного напыления, с помощью тонкопленочной технологии изготавливают
в основном пассивные элементы (резисторы, конденсаторы и индуктивности), а
также пленочные проводники и контактные площадки. На рис. 20 показана
тонкопленочная микросхема, которая является пассивной частью гибридной
микросхемы.
Гибридные ИМСмикросхемы, состоят из пассивных элементов,
полученных тонкопленочной технологией; и навесных элементов любого
назначения (транзисторы, диоды, конденсаторы, резисторы и т. д.).
Преимущество гибридных микросхем состоит в том, что они дают возможность
сочетать достоинство пленочной технологии с высокими электрическими
параметрами навесных элементов.
Пассивные элементы (резисторы, конденсаторы, катушки индуктивности),
контактные площадки для монтажа навесных элементов, пленочные
проводники, а также навесные элементы 1 размещены на подложке 2.
Она представляет собой прямоугольную пластину толщиной 0,2–1,6 мм.
Одна сторона подложки, на которую наносят пленочный рисунок, является
рабочей. Подложка крепится на основание корпуса 5. Соединение между