ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
20
Если концентрация ловушек в полупроводнике мала по сравнению с плотностью избы-
точных носителей заряда, т. е. если N
t
« ∆n, то количеством электронов N
t
f
t
, оседающих на ло-
вушках, можно пренебречь. При этом условии избыточная концентрация электронов будет
равна избыточной концентрации пазонов, т. е.
∆n = ∆p и R
n
* = R
р
* = R*. Из равенства уравнений
(49) и (50) найдём функцию распределения f
t
, для электронов, находящихся на ловушках.
f
t
= (C
n
n* +
C
р
p
1
) / [C
n
(n* + n
1
) +
C
р
(p* + p
1
)]. (53)
Подставив это выражение f
t
в уравнение (49), получим общее уравнение для R:
R = C
n
C
р
(n*p* – n
1
p
1
) / [C
n
(n* + n
1
) +
C
р
(p* + p
1
)]. (54)
С учётом уравнений (48), (51) и (7) (n
1
p
1
=
n
i
2
= np) его можно преобразовать к виду:
R = C
n
C
р
(n*p* – n
i
2
) / {С
n
[n* + N
c
exp (E
t
–E
c
)/kT ] + С
p
[p* + N
v
exp(E
v
–E
t
)/kT ]}. (55)
Зная скорость рекомбинации неравновесных носителей заряда R = dn/dt =
∆n/τ, можно
определить время жизни
τ пары электрон–пазон. При R
n
= R
р
и ∆n = ∆p имеем:
τ = ∆n /R = (п* – п)/R = ∆n [C
n
(n* + n
1
) +
C
р
(p* + p
1
)] / [C
n
C
р
(n*p* – n
1
p
1
)]. (56)
Заменив п* на п +
∆n и p* на p + ∆p, получим:
τ = (n + n
1
+ ∆n) / [C
р
(n + p + ∆n)] +
(p + p
1
+ ∆p) / [C
n
(n + p + ∆n)], (57)
где C
n
=
σ
n
v
tп
N
t
= 1/τ
п
и C
р
=
σ
р
v
tр
N
t
= 1/τ
р
.
При малом уровне возбуждения, когда
∆n « п и ∆p « p, уравнение (57) примет вид:
τ = τ
ро
(n + n
1
)/(n + p) + τ
по
(p + p
1
)/(n + p), (58)
где
τ
ро
– время жизни равновесных пазонов – неосновных носителей заряда в п-типе;
τ
по
– время жизни равновесных электронов – неосновных носителей заряда в р-типе.
Для невырожденного полупроводника п-типа при п
» р, п » р
1
и п < п
1
получим:
τ
р
≈ τ
ро
n
1
/n = τ
ро
exp (E
t
– E
F
)/kT = τ
ро
(N
c
/n)
exp (E
t
– E
c
)/kT. (59)
Аналогичное выражение для
τ
п
получается для невырожденного полупроводника р-типа.
Как следует из уравнения (59), в полупроводнике п-типа увеличение концентрации сво-
бодных электронов п (донорной примеси),
уменьшает время жизни пазонов τ
р
– неосновных
носителей заряда в п-типе.
И наоборот, увеличивается τ
р
с уменьшением концентрации сво-
бодных электронов п. При высоких концентрациях донорной примеси, когда полупроводник
начинает вырождаться, время жизни пазонов
τ
р
, достигнув минимального значения, переста-
ёт зависеть от степени легирования.
Для германия п-типа при комнатной температуре
τ
р
уменьшается: с 2⋅10
–3
с при п = 10
14
см
–3
до 4⋅10
–5
с при п = 10
17
см
–3
и может быть описано эмпирическим уравнением [1, рис. 7-8]:
τ
р
≈ 10
–4.6
[(10
17
.6
/п)
½
+ 1], с. (60)
10. Вольтамперные ха рактер истики контактов
металл – полупроводник
Контактам металл – полупроводник (МП) посвящена обширная литература: и теории
униполярной проводимости, и способам получения контактов МП, и зависимости их вольт-
амперных характеристик (ВАХ) от различных факторов. Это неслучайно, поскольку кон-
такты МП являются
основой полупроводниковой электроники, особенно выпрямляющие
контакты металл – полупроводник n-типа. Хотя методы создания таких контактов разные –
вакуумное напыление, электроосаждение, наплавление и другие – их ВАХ обычно мало за-
висят от способа изготовления, но существенно – от условий его выполнения.
Содержание этого параграфа, даже представленного в простейшей форме, требует от
неподготовленного читателя знания ряда исходных сведений, изложенных выше, в главе 1 и
в других разделах данного издания, а также в книгах по физике полупроводников [1-3]. По-
этому, при необходимости, сначала следует изучить эти сведения.
Если концентрация ловушек в полупроводнике мала по сравнению с плотностью избы- точных носителей заряда, т. е. если Nt « ∆n, то количеством электронов Nt ft, оседающих на ло- вушках, можно пренебречь. При этом условии избыточная концентрация электронов будет равна избыточной концентрации пазонов, т. е. ∆n = ∆p и Rn* = Rр* = R*. Из равенства уравнений (49) и (50) найдём функцию распределения ft, для электронов, находящихся на ловушках. ft = (Cn n* + Cр p1) / [Cn(n* + n1) + Cр(p* + p1)]. (53) Подставив это выражение ft в уравнение (49), получим общее уравнение для R: R = Cn Cр (n*p* n1p1) / [Cn(n* + n1) + Cр(p* + p1)]. (54) 2 С учётом уравнений (48), (51) и (7) (n1 p1 = ni = np) его можно преобразовать к виду: R = CnCр (n*p* ni2) / {Сn [n* + Nc exp (Et Ec)/kT ] + Сp [p* + Nv exp(EvEt)/kT ]}. (55) Зная скорость рекомбинации неравновесных носителей заряда R = dn/dt = ∆n/τ, можно определить время жизни τ пары электронпазон. При Rn = Rр и ∆n = ∆p имеем: τ = ∆n /R = (п* п)/R = ∆n [Cn(n* + n1) + Cр(p* + p1)] / [Cn Cр (n*p* n1p1)]. (56) Заменив п* на п + ∆n и p* на p + ∆p, получим: τ = (n + n1 + ∆n) / [Cр (n + p + ∆n)] + (p + p1 + ∆p) / [Cn (n + p + ∆n)], (57) где Cn = σn vtп Nt = 1/τп и Cр = σр vtр Nt = 1/τр. При малом уровне возбуждения, когда ∆n « п и ∆p « p, уравнение (57) примет вид: τ = τро(n + n1)/(n + p) + τпо(p + p1)/(n + p), (58) где τ р о время жизни равновесных пазонов неосновных носителей заряда в п-типе; τ п о время жизни равновесных электронов неосновных носителей заряда в р-типе. Для невырожденного полупроводника п-типа при п » р, п » р1 и п < п1 получим: τр ≈ τро n1/n = τро exp (Et EF)/kT = τро (Nc /n) exp (Et Ec)/kT. (59) Аналогичное выражение для τп получается для невырожденного полупроводника р-типа. Как следует из уравнения (59), в полупроводнике п-типа увеличение концентрации сво- бодных электронов п (донорной примеси), уменьшает время жизни пазонов τр неосновных носителей заряда в п-типе. И наоборот, увеличивается τр с уменьшением концентрации сво- бодных электронов п. При высоких концентрациях донорной примеси, когда полупроводник начинает вырождаться, время жизни пазонов τр, достигнув минимального значения, переста- ёт зависеть от степени легирования. Для германия п-типа при комнатной температуре τр уменьшается: с 2⋅103 с при п = 1014 см3 до 4⋅105 с при п = 1017 см3 и может быть описано эмпирическим уравнением [1, рис. 7-8]: τр ≈ 104.6[(1017.6/п)½ + 1], с. (60) 10. Вольтамперные характеристики контактов металл полупроводник Контактам металл полупроводник (МП) посвящена обширная литература: и теории униполярной проводимости, и способам получения контактов МП, и зависимости их вольт- амперных характеристик (ВАХ) от различных факторов. Это неслучайно, поскольку кон- такты МП являются основой полупроводниковой электроники, особенно выпрямляющие контакты металл полупроводник n-типа. Хотя методы создания таких контактов разные вакуумное напыление, электроосаждение, наплавление и другие их ВАХ обычно мало за- висят от способа изготовления, но существенно от условий его выполнения. Содержание этого параграфа, даже представленного в простейшей форме, требует от неподготовленного читателя знания ряда исходных сведений, изложенных выше, в главе 1 и в других разделах данного издания, а также в книгах по физике полупроводников [1-3]. По- этому, при необходимости, сначала следует изучить эти сведения. 20
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 18
- 19
- 20
- 21
- 22
- …
- следующая ›
- последняя »